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基底的氮化处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201911047844.0
申请日
:
2019-10-30
公开(公告)号
:
CN110752147B
公开(公告)日
:
2020-02-04
发明(设计)人
:
王青
董雅娟
申请人
:
申请人地址
:
201315 上海市浦东新区良腾路6号
IPC主分类号
:
H01L2102
IPC分类号
:
代理机构
:
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人
:
曹廷廷
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-02-04
公开
公开
2021-11-26
授权
授权
2020-02-28
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20191030
共 50 条
[1]
氮化处理装置以及氮化处理方法
[P].
阿部麻衣子
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阿部麻衣子
;
赤理孝一郎
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赤理孝一郎
.
中国专利
:CN112703268A
,2021-04-23
[2]
氮化处理的后处理方法
[P].
依田惠市
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依田惠市
;
黑须保
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黑须保
.
中国专利
:CN85106068A
,1987-02-25
[3]
取向性电磁钢板的氮化处理设备和氮化处理方法
[P].
松田广志
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松田广志
;
高桥秀行
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高桥秀行
;
山口广
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山口广
;
早川康之
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早川康之
;
新垣之启
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新垣之启
;
寺岛敬
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寺岛敬
.
中国专利
:CN105074043A
,2015-11-18
[4]
等离子体氮化处理方法和等离子体氮化处理装置
[P].
高槻浩一
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高槻浩一
;
山崎和良
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山崎和良
;
野口秀幸
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野口秀幸
;
田村大辅
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田村大辅
;
齐藤智博
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齐藤智博
.
中国专利
:CN102725834B
,2012-10-10
[5]
等离子体氮化处理方法
[P].
出张俊宪
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出张俊宪
;
佐野正树
论文数:
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佐野正树
.
中国专利
:CN102725835A
,2012-10-10
[6]
等离子体氮化处理方法
[P].
松山征嗣
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松山征嗣
;
中西敏雄
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中西敏雄
;
尾崎成则
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尾崎成则
;
足立光
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足立光
;
高槻浩一
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高槻浩一
;
佐藤吉宏
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佐藤吉宏
.
中国专利
:CN102181819A
,2011-09-14
[7]
等离子体氮化处理方法
[P].
北川淳一
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北川淳一
;
小林岳志
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0
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0
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0
小林岳志
.
中国专利
:CN101908484A
,2010-12-08
[8]
等离子体氮化处理方法
[P].
大崎良规
论文数:
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0
大崎良规
;
黑田豪
论文数:
0
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0
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0
黑田豪
.
中国专利
:CN102737977A
,2012-10-17
[9]
钛材料的表面氮化处理方法
[P].
小茂鸟润
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小茂鸟润
;
太田俊平
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0
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太田俊平
;
深泽剑吾
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深泽剑吾
;
三阪佳孝
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三阪佳孝
;
川嵜一博
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0
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川嵜一博
.
中国专利
:CN107683344A
,2018-02-09
[10]
选择性等离子体氮化处理方法和等离子体氮化处理装置
[P].
门田太一
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门田太一
;
中村秀雄
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中村秀雄
;
北川淳一
论文数:
0
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0
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0
北川淳一
.
中国专利
:CN102414803A
,2012-04-11
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