等离子体氮化处理方法

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专利类型
发明
申请号
CN201180007125.1
申请日
2011-03-30
公开(公告)号
CN102725835A
公开(公告)日
2012-10-10
发明(设计)人
出张俊宪 佐野正树
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01L21318
IPC分类号
代理机构
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
龙淳
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体氮化处理方法和等离子体氮化处理装置 [P]. 
高槻浩一 ;
山崎和良 ;
野口秀幸 ;
田村大辅 ;
齐藤智博 .
中国专利 :CN102725834B ,2012-10-10
[2]
等离子体氮化处理方法 [P]. 
大崎良规 ;
黑田豪 .
中国专利 :CN102737977A ,2012-10-17
[3]
等离子体氮化处理中的腔室内的前处理方法、等离子体处理方法、和等离子体处理装置 [P]. 
佐野正树 ;
石塚修一 .
中国专利 :CN101681836A ,2010-03-24
[4]
等离子体氮化处理方法 [P]. 
北川淳一 ;
小林岳志 .
中国专利 :CN101908484A ,2010-12-08
[5]
等离子体氧化处理方法和等离子体处理装置 [P]. 
盐泽俊彦 ;
壁义郎 ;
小林岳志 ;
足立光 ;
北川淳一 ;
山本伸彦 .
中国专利 :CN101523575B ,2009-09-02
[6]
等离子体处理装置、等离子体处理方法 [P]. 
石川拓 ;
户部康弘 .
中国专利 :CN101622698B ,2010-01-06
[7]
选择性等离子体氮化处理方法和等离子体氮化处理装置 [P]. 
门田太一 ;
中村秀雄 ;
北川淳一 .
中国专利 :CN102414803A ,2012-04-11
[8]
等离子体氧化处理方法、等离子体处理装置和存储介质 [P]. 
盐泽俊彦 ;
壁义郎 ;
小林岳志 ;
北川淳一 ;
伊佐和裕 .
中国专利 :CN101523576A ,2009-09-02
[9]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
东条利洋 ;
藤井祐希 .
中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
堀口贵弘 ;
冈信介 .
中国专利 :CN100536634C ,2006-11-15