药液的异常检测装置、液处理装置、基片处理装置、药液的异常检测方法、液处理方法和基片处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980024973.X

申请日：

2019-04-01

公开(公告)号：

CN112041968A

公开(公告)日：

2020-12-04

发明(设计)人：

林圣人森拓也志手英男坂本浩一

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

B05C914 B05C1100 B05C1108 B05C1110 B05D140 B05D300 B05D306

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳;徐飞跃

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-02-05	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/027 申请日:20190401
2020-12-04	公开	公开

共 50 条

[1]

药液的异常检测装置、液处理装置、基片处理装置、药液的异常检测方法、液处理方法和基片处理方法 [P].

林圣人 ;

森拓也 ;

志手英男 ;

坂本浩一 .

日本专利 :CN112041968B ,2024-01-26

[2]

基片处理装置和基片处理装置中的密封部件的异常检测方法 [P].

渡边友树 .

日本专利 :CN120824217A ,2025-10-21

[3]

基片液处理装置和基片液处理方法 [P].

小原隆宪 ;

久留巢健人 .

中国专利 :CN115702479A ,2023-02-14

[4]

基片处理系统和基片异常检测方法 [P].

永井龙 ;

石川慎也 ;

佐藤健太 ;

田中康基 .

日本专利 :CN119866540A ,2025-04-22

[5]

基片液处理装置和基片液处理方法 [P].

中岛干雄 ;

田中明贤 ;

绪方信博 ;

宫本勋武 .

中国专利 :CN113690160A ,2021-11-23

[6]

基片液处理装置和基片液处理方法 [P].

中岛干雄 ;

小宫洋司 ;

中森光则 ;

北野淳一 ;

南辉臣 ;

大塚贵久 ;

小佐井一树 ;

尾嶋智明 .

中国专利 :CN115516606A ,2022-12-23

[7]

基片处理方法和基片处理装置 [P].

矢崎晃平 ;

土桥和也 ;

永原诚司 .

日本专利 :CN121165396A ,2025-12-19

[8]

基片液处理装置、基片液处理方法和图像处理方法 [P].

朴上元 ;

久野和哉 .

日本专利 :CN121075950A ,2025-12-05

[9]

基片处理装置、液处理装置和液处理方法 [P].

立山清久 ;

元田公男 ;

佐田彻也 ;

宫崎一仁 ;

筱木武虎 .

中国专利 :CN1262888C ,2003-01-22

[10]

基片处理装置和基片处理方法 [P].

立花康三 ;

山下海誓 .

日本专利 :CN120814031A ,2025-10-17

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