X射线源和荧光X射线分析装置

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专利类型
发明
申请号
CN200780000164.2
申请日
2007-02-01
公开(公告)号
CN101310359A
公开(公告)日
2008-11-19
发明(设计)人
青木延忠 角谷晶子
申请人
申请人地址
日本栃木县
IPC主分类号
H01J3508
IPC分类号
G01N23223 H01J3510 H01J3518 H01J3526
代理机构
上海专利商标事务所有限公司
代理人
沈昭坤
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法 [P]. 
高原稔幸 .
中国专利 :CN105628724A ,2016-06-01
[2]
荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法 [P]. 
深井隆行 ;
的场吉毅 ;
大柿真毅 .
中国专利 :CN109459458A ,2019-03-12
[3]
荧光X射线源 [P]. 
G·哈丁格 ;
B·R·达维德 .
中国专利 :CN1791960A ,2006-06-21
[4]
荧光X射线分析方法和荧光X射线分析装置 [P]. 
泉山优树 .
日本专利 :CN119064395A ,2024-12-03
[5]
荧光X射线分析方法和荧光X射线分析装置 [P]. 
佐久田昌博 ;
坂井范昭 ;
长谷川清 .
中国专利 :CN103575757A ,2014-02-12
[6]
荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法 [P]. 
佐久田昌博 .
中国专利 :CN103308539B ,2013-09-18
[7]
荧光X射线分析方法和荧光X射线分析装置 [P]. 
铃木桂次郎 ;
八岛志保 ;
克里恩卡莫尔·坦特拉卡恩 .
日本专利 :CN119096139A ,2024-12-06
[8]
荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法 [P]. 
长谷川清 ;
一宫丰 ;
泷口英树 .
中国专利 :CN102384924A ,2012-03-21
[9]
荧光X射线分析装置以及荧光X射线分析方法 [P]. 
斋藤佑多 .
中国专利 :CN112105919A ,2020-12-18
[10]
X射线源和X射线成像设备 [P]. 
谭承君 ;
黄文会 ;
靳清秀 ;
唐传祥 ;
刘东海 ;
罗群 ;
吴沛东 ;
张路明 ;
徐丛 ;
宋程 ;
丁云泽 ;
王硕 .
中国专利 :CN210535623U ,2020-05-15