一种MEMS圆片双面步进光刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310505575.4

申请日：

2013-10-24

公开(公告)号：

CN103558740A

公开(公告)日：

2014-02-05

发明(设计)人：

王文婧郭群英吕东锋徐栋黄斌陈璞陈博王鹏何凯旋刘磊庄须叶

申请人：

申请人地址：

233042 安徽省蚌埠市经济开发区财院路10号

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113

代理人：

杨晋弘

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-02-05	公开	公开
2014-03-12	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101576327720 IPC(主分类):G03F 9/00 专利申请号:2013105055754 申请日:20131024
2016-09-21	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101739059495 IPC(主分类):G03F 9/00 专利申请号:2013105055754 申请公布日:20140205

共 50 条

[1]

一种晶圆片光刻方法 [P].

王青 ;

江振 .

中国专利 :CN108762002B ,2018-11-06

[2]

一种高精密MEMS圆片光刻装置 [P].

朱丰 ;

任强 ;

张琦 ;

寿允丰 .

中国专利 :CN216718900U ,2022-06-10

[3]

一种晶圆片光刻工艺 [P].

侯玉闯 ;

薛鹏 .

中国专利 :CN108648991A ,2018-10-12

[4]

圆片的光刻方法 [P].

张春华 ;

张馨月 .

中国专利 :CN101963764A ,2011-02-02

[5]

一种光刻机用晶圆片涂胶系统 [P].

王青 ;

江振 .

中国专利 :CN108649004B ,2018-10-12

[6]

一种光刻机用晶圆片匀胶装置 [P].

侯玉闯 ;

薛鹏 .

中国专利 :CN108646517A ,2018-10-12

[7]

一种光刻机用晶圆片匀胶装置 [P].

卫广连 ;

叶东国 ;

付志江 .

中国专利 :CN213715698U ,2021-07-16

[8]

一种光刻机用晶圆片匀胶装置 [P].

孙晓东 ;

闻杰 .

中国专利 :CN220290026U ,2024-01-02

[9]

一种光刻机用晶圆片涂胶系统 [P].

覃冬梅 .

中国专利 :CN110665761A ,2020-01-10

[10]

一种双面光刻的光刻系统及光刻方法 [P].

张飞飞 ;

李伟成 ;

张雷 .

中国专利 :CN115128908A ,2022-09-30

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