一种通过磁控溅射直流共溅射制备Ni-Co-Mn-Ti合金薄膜的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610871554.8

申请日：

2016-09-30

公开(公告)号：

CN107881475B

公开(公告)日：

2018-04-06

发明(设计)人：

马胜灿刘凯张林钟震晨钟明龙江庆政

申请人：

申请人地址：

341000 江西省赣州市客家大道156号江西理工大学黄金校区

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1414

代理机构：

西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223

代理人：

李振瑞

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-11-01	授权	授权
2018-04-06	公开	公开
2018-05-01	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20160930

共 50 条

[1]

激光脉冲溅射沉积制备Ni-Mn-Co-In合金薄膜的方法 [P].

董桂馥 .

中国专利 :CN105296925B ,2016-02-03

[2]

一种磁控溅射制备合金纳米薄膜的方法 [P].

王明 ;

纪红 ;

卢硕 ;

赵秀红 ;

孙爱斌 ;

苏乐 ;

张玉彪 .

中国专利 :CN110656314A ,2020-01-07

[3]

一种通过直流磁控溅射法制备氧化钽薄膜的方法 [P].

王海钱 ;

苏豪凯 ;

温刘平 ;

吴智升 ;

王伯宇 ;

王晓强 .

中国专利 :CN106958008A ,2017-07-18

[4]

一种基于直流反应共溅射的热敏电阻薄膜制备方法 [P].

孔雯雯 ;

常爱民 ;

蒋春萍 ;

王振华 .

中国专利 :CN112663002A ,2021-04-16

[5]

一种高强度Ni-Co-Mn-Ti形状记忆合金及其制备方法 [P].

李振庄 ;

邬颜泽 ;

关子齐 ;

唐鸿元 .

中国专利 :CN119980004A ,2025-05-13

[6]

一种磁控溅射制备BMN薄膜的方法 [P].

高虹 .

中国专利 :CN105220123A ,2016-01-06

[7]

一种采用磁控溅射制备薄膜的方法 [P].

朱嘉琦 ;

姜春竹 ;

韩潇 ;

梁军 .

中国专利 :CN100494479C ,2008-01-09

[8]

合金靶材磁控溅射法制备CoSi2薄膜的方法 [P].

程凡雄 ;

姜传海 ;

吴建生 ;

董显平 ;

单爱党 .

中国专利 :CN1304630C ,2005-05-11

[9]

一种共溅射制备金锡焊料薄膜的方法 [P].

靳世旭 ;

潘远志 ;

刘鑫 ;

邓敏航 ;

薛波 .

中国专利 :CN115449765A ,2022-12-09

[10]

一种磁控溅射制备氢化硅碳薄膜的方法 [P].

马胜利 ;

张旭东 .

中国专利 :CN101660132A ,2010-03-03

← 1 2 3 4 5 →