等离子处理装置和将电力脉冲输出至至少一个处理室的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980064712.0

申请日：

2019-10-02

公开(公告)号：

CN112912989A

公开(公告)日：

2021-06-04

发明(设计)人：

夕巴斯汀·哈柏特斯·舒兹汤玛斯·沛尔瑙

申请人：

申请人地址：

德国布劳博伊伦福特伯格街31

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01J3734 C23C1454

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205

代理人：

杨贝贝;臧建明

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-06-04	公开	公开
2022-03-18	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01J 37/32 申请公布日:20210604

共 50 条

[1]

用于等离子体处理至少一个表面的方法和装置 [P].

M.本戴奇 ;

A.库普斯 .

中国专利 :CN109078819B ,2018-12-25

[2]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小口元树 ;

森崎昭生 ;

花田幸纪 .

中国专利 :CN101853763A ,2010-10-06

[3]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小野寺直见 ;

乡右近清彦 ;

佐藤润 .

中国专利 :CN101877304B ,2010-11-03

[4]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

宫田浩二 ;

佐藤徹治 .

中国专利 :CN1761032A ,2006-04-19

[5]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

山泽阳平 ;

奥西直彦 ;

三泽裕文 ;

添田秀史 .

中国专利 :CN101853766A ,2010-10-06

[6]

通过具有多个处理单元的处理装置容错实施至少一个输入值到至少一个输出值的映射的方法和处理装置 [P].

C·E·德拉帕拉阿帕里西奥 ;

D·S·利贝尔 ;

J·M·博尔曼 ;

M·贝耶 .

德国专利 :CN120872697A ,2025-10-31

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

禹相浩 ;

梁日光 .

中国专利 :CN101952941A ,2011-01-19

[8]

等离子体处理装置的控制方法和等离子体处理装置 [P].

冈信介 .

中国专利 :CN100576966C ,2007-02-14

[9]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

平山昌树 .

中国专利 :CN103503580A ,2014-01-08

[10]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

桧森慎司 .

中国专利 :CN101990353A ,2011-03-23

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