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半导体晶粒的制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910537982.0
申请日
:
2019-06-20
公开(公告)号
:
CN110660676A
公开(公告)日
:
2020-01-07
发明(设计)人
:
王韻婷
林奕安
张庆全
郭铂漳
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号
IPC主分类号
:
H01L2148
IPC分类号
:
H01L23498
代理机构
:
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006
代理人
:
徐金国
法律状态
:
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-12-07
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L 21/48 申请公布日:20200107
2020-01-07
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
洼内源宜
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
富士电机株式会社
富士电机株式会社
洼内源宜
;
下沢慎
论文数:
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机构:
富士电机株式会社
富士电机株式会社
下沢慎
;
吉村尚
论文数:
0
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0
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机构:
富士电机株式会社
富士电机株式会社
吉村尚
.
日本专利
:CN118435357A
,2024-08-02
[2]
半导体基板的制造方法和半导体基板
[P].
黄杰
论文数:
0
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黄杰
;
宁策
论文数:
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宁策
;
李正亮
论文数:
0
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李正亮
;
胡合合
论文数:
0
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胡合合
;
贺家煜
论文数:
0
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贺家煜
;
姚念琦
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姚念琦
;
赵坤
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赵坤
;
曲峰
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0
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0
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曲峰
;
许晓春
论文数:
0
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0
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许晓春
.
中国专利
:CN113838801A
,2021-12-24
[3]
半导体基板的制造方法及半导体基板
[P].
秦雅彦
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秦雅彦
;
市川磨
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市川磨
;
卜部友二
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卜部友二
;
宫田典幸
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宫田典幸
;
前田辰郎
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前田辰郎
;
安田哲二
论文数:
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安田哲二
.
中国专利
:CN103548126B
,2014-01-29
[4]
半导体基板的制造方法和半导体基板
[P].
黄杰
论文数:
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
黄杰
;
宁策
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
宁策
;
李正亮
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
李正亮
;
胡合合
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
胡合合
;
贺家煜
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
贺家煜
;
姚念琦
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
姚念琦
;
赵坤
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
赵坤
;
曲峰
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
曲峰
;
许晓春
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
许晓春
.
中国专利
:CN113838801B
,2024-10-22
[5]
半导体晶粒及其制造方法
[P].
林孟汉
论文数:
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林孟汉
;
黄家恩
论文数:
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黄家恩
.
中国专利
:CN114792693A
,2022-07-26
[6]
半导体晶粒及其制造方法
[P].
蒋光浩
论文数:
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机构:
鸿扬半导体股份有限公司
鸿扬半导体股份有限公司
蒋光浩
.
中国专利
:CN119907311A
,2025-04-29
[7]
半导体元件的制造方法
[P].
李丹晨
论文数:
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李丹晨
;
詹博文
论文数:
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詹博文
.
中国专利
:CN102332402A
,2012-01-25
[8]
半导体装置的制造方法
[P].
王文生
论文数:
0
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王文生
.
中国专利
:CN101203957B
,2008-06-18
[9]
制造半导体装置的方法
[P].
罗伊辰
论文数:
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罗伊辰
;
林立德
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林立德
;
黄玉莲
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黄玉莲
.
中国专利
:CN108231563A
,2018-06-29
[10]
半导体装置的制造方法
[P].
洼内源宜
论文数:
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机构:
富士电机株式会社
富士电机株式会社
洼内源宜
;
下沢慎
论文数:
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机构:
富士电机株式会社
富士电机株式会社
下沢慎
;
吉村尚
论文数:
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机构:
富士电机株式会社
富士电机株式会社
吉村尚
.
日本专利
:CN118369758A
,2024-07-19
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