靶材溅射镀膜腔体及提高镀膜腔体洁净程度的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011270174.1

申请日：

2020-11-13

公开(公告)号：

CN112501564A

公开(公告)日：

2021-03-16

发明(设计)人：

杨海成

申请人：

申请人地址：

523000 广东省东莞市长安镇乌沙社区第六工业区海滨路7号4楼

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C23C1456

代理机构：

深圳市兴科达知识产权代理有限公司 44260

代理人：

方玉叶

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-03-16	公开	公开
2022-09-02	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/34 申请日:20201113

共 50 条

[1]

靶材溅射镀膜装置及其使用方法 [P].

杨海成 .

中国专利 :CN112962073A ,2021-06-15

[2]

基于磁控溅射的异型腔体内壁镀膜装置 [P].

鲍美玲 ;

殷齐龙 ;

周科 ;

杜思俊 ;

尚元帅 ;

邢银龙 ;

刘娜 ;

刘腾飞 ;

刘鑫 .

中国专利 :CN120555965A ,2025-08-29

[3]

一种磁控溅射镀膜真空腔体 [P].

王俊儒 ;

王亚辉 ;

李志刚 ;

时家明 ;

张金花 ;

王泳棵 ;

陈友才 ;

常亚婧 .

中国专利 :CN117364039A ,2024-01-09

[4]

磁控溅射镀膜方法、镀膜产品及镀膜装置 [P].

李翔 ;

白展逢 ;

袁红霞 ;

姚俊 .

中国专利 :CN119663209A ,2025-03-21

[5]

磁控溅射圆柱靶及磁控溅射镀膜设备 [P].

罗金豪 ;

解传佳 ;

潘俊杰 ;

赵贤贵 .

中国专利 :CN222119368U ,2024-12-06

[6]

溅射式镀膜机用靶材结构 [P].

张向东 .

中国专利 :CN2732756Y ,2005-10-12

[7]

磁控溅射镀膜系统中提高平面靶材利用率的方法 [P].

田小智 ;

姜翠宁 ;

黄启耀 .

中国专利 :CN101586228A ,2009-11-25

[8]

一种用于磁控溅射镀膜提高靶材利用率的方法及系统 [P].

夏白杨 ;

明松 .

中国专利 :CN121023456A ,2025-11-28

[9]

溅射玻璃镀膜用镍基变形合金靶材 [P].

罗素娟 ;

易邦旺 ;

解云飞 ;

俞峰 ;

王凡 ;

胡燕 .

中国专利 :CN1182804A ,1998-05-27

[10]

靶材溅射镀膜设备自动除尘上料装置 [P].

杨海成 ;

向青波 ;

米县稳 .

中国专利 :CN211897095U ,2020-11-10

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