基板清洗装置、基板处理装置、基板清洗方法以及喷嘴

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110796911.X

申请日：

2021-07-14

公开(公告)号：

CN113948420A

公开(公告)日：

2022-01-18

发明(设计)人：

及川文利深谷孝一中野央二郎

申请人：

申请人地址：

日本国东京都大田区羽田旭町11番1号

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

B08B502 B08B302 B05B702

代理机构：

上海华诚知识产权代理有限公司 31300

代理人：

张丽颖

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-01-18	公开	公开

共 50 条

[1]

基板清洗装置、基板处理装置、基板清洗方法、以及基板处理方法 [P].

梶川敬之 ;

半田直廉 ;

西智也 .

日本专利 :CN119343750A ,2025-01-21

[2]

基板清洗装置、基板清洗方法以及基板处理装置 [P].

田中英明 .

中国专利 :CN112908901A ,2021-06-04

[3]

基板清洗装置、基板清洗方法以及基板处理装置 [P].

田中英明 .

中国专利 :CN105895556A ,2016-08-24

[4]

基板清洗装置、基板清洗方法以及基板处理装置 [P].

田中英明 .

日本专利 :CN112908901B ,2024-11-26

[5]

基板清洗装置、基板清洗方法、基板处理装置以及基板干燥装置 [P].

石桥知淳 .

中国专利 :CN108780746A ,2018-11-09

[6]

基板清洗装置、基板清洗方法、基板处理装置以及基板干燥装置 [P].

石桥知淳 .

日本专利 :CN108780746B ,2024-03-22

[7]

基板清洗装置、基板清洗方法、基板处理装置 [P].

川村茂 ;

林辉幸 .

中国专利 :CN101313389A ,2008-11-26

[8]

基板清洗装置、基板清洗系统以及基板清洗方法 [P].

金子都 ;

折居武彦 ;

志村悟 ;

山下刚秀 ;

菅野至 .

中国专利 :CN103567169B ,2014-02-12

[9]

基板清洗装置以及基板清洗方法 [P].

金子都 ;

折居武彦 ;

志村悟 ;

山下刚秀 ;

菅野至 .

中国专利 :CN106847729A ,2017-06-13

[10]

基板清洗方法以及基板清洗装置 [P].

吉田幸史 .

中国专利 :CN109545705A ,2019-03-29

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