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磁控阴极溅射镀膜工艺室
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201320412833.X
申请日：
2013-07-11
公开(公告)号：
CN203411603U
公开(公告)日：
2014-01-29
发明(设计)人：
陆仁立
申请人：
申请人地址：
401520 重庆市合川区工业园高阳路1499号
IPC主分类号：
C23C1435
IPC分类号：
代理机构：
北京汇泽知识产权代理有限公司 11228
代理人：
张瑾
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2014-01-29 | 授权 | 授权 |