一种双腔室溅射镀膜设备和镀膜工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411947001.7

申请日：

2024-12-27

公开(公告)号：

CN119392198A

公开(公告)日：

2025-02-07

发明(设计)人：

张心凤刘洋汪鹏

申请人：

安徽纯源镀膜科技有限公司

申请人地址：

230031 安徽省合肥市蜀山区大别山路1599号环新集团联合厂房1号南侧

IPC主分类号：

C23C14/56

IPC分类号：

C23C14/34

代理机构：

合肥九道和专利代理事务所(特殊普通合伙) 34154

代理人：

金光恩

法律状态：

公开

国省代码：

江苏省常州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-07	公开	公开
2025-02-25	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/56申请日:20241227

共 50 条

[1]

一种双腔室溅射镀膜设备 [P].

张心凤 ;

刘洋 ;

汪鹏 .

中国专利 :CN223280929U ,2025-08-29

[2]

溅射镀膜设备及其镀膜腔室 [P].

刘壮 ;

崔骏 ;

张撷秋 ;

杨世航 ;

陈旺寿 ;

李霖 ;

顾光一 .

中国专利 :CN106893993B ,2017-06-27

[3]

多腔室溅射镀膜设备 [P].

高佳 ;

周征华 ;

宋加杰 ;

赵金雷 ;

王随随 .

中国专利 :CN119332222A ,2025-01-21

[4]

双腔室镀膜设备以及镀膜方法 [P].

明帅强 ;

李明 ;

何萌 ;

夏洋 .

中国专利 :CN120443140A ,2025-08-08

[5]

磁控阴极溅射镀膜工艺室 [P].

陆仁立 .

中国专利 :CN203411603U ,2014-01-29

[6]

双极溅射镀膜真空室 [P].

张一为 ;

徐世杰 .

中国专利 :CN204714887U ,2015-10-21

[7]

一种磁控溅射卷绕镀膜设备的镀膜室 [P].

余荣沾 ;

王忠雨 ;

袁世成 ;

张欣 ;

于小杰 .

中国专利 :CN216005999U ,2022-03-11

[8]

溅射镀膜装置和设备及其溅射镀膜组件 [P].

宗坚 .

中国专利 :CN115074680A ,2022-09-20

[9]

镀膜腔室 [P].

王刚 ;

周伟东 .

中国专利 :CN209065993U ,2019-07-05

[10]

真空干燥镀膜腔室、设备 [P].

左国军 ;

侯岳明 ;

朱海剑 ;

芦伟 ;

戴宇星 .

中国专利 :CN221335145U ,2024-07-16

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