晶体管的形成方法

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专利类型
发明
申请号
CN201510215854.6
申请日
2015-04-29
公开(公告)号
CN106206691A
公开(公告)日
2016-12-07
发明(设计)人
李勇
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L2966
IPC分类号
H01L2128
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
吴敏
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
晶体管的形成方法 [P]. 
李勇 .
中国专利 :CN106298528A ,2017-01-04
[2]
MOS晶体管的形成方法 [P]. 
李勇 .
中国专利 :CN106206301A ,2016-12-07
[3]
晶体管的形成方法 [P]. 
徐建华 .
中国专利 :CN105336589A ,2016-02-17
[4]
晶体管的形成方法 [P]. 
刘佳磊 .
中国专利 :CN105826261A ,2016-08-03
[5]
LDMOS晶体管的形成方法及LDMOS晶体管 [P]. 
李勇 .
中国专利 :CN105826189A ,2016-08-03
[6]
LDMOS晶体管的形成方法及LDMOS晶体管 [P]. 
李勇 ;
赵杰 .
中国专利 :CN105529264A ,2016-04-27
[7]
MOS晶体管的形成方法 [P]. 
刘佳磊 .
中国专利 :CN106558499B ,2017-04-05
[8]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
谢欣云 .
中国专利 :CN104681490A ,2015-06-03
[9]
晶体管和晶体管的形成方法 [P]. 
赵猛 ;
三重野文健 .
中国专利 :CN103545200B ,2014-01-29
[10]
CMOS晶体管的形成方法 [P]. 
隋运奇 ;
刘格致 .
中国专利 :CN104425377A ,2015-03-18