溅射用镧靶

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080012378.3

申请日：

2010-03-17

公开(公告)号：

CN102378825A

公开(公告)日：

2012-03-14

发明(设计)人：

塚本志郎大月富男

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

B21J500 C22C2800 C22F100

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司 11219

代理人：

王海川;穆德骏

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-04-25	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101231927263 IPC(主分类):C23C 14/34 专利申请号:2010800123783 申请日:20100317
2012-03-14	公开	公开
2017-04-12	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101749929760 IPC(主分类):C23C 14/34 专利号:ZL2010800123783 变更事项:专利权人变更前:吉坤日矿日石金属株式会社变更后:捷客斯金属株式会社变更事项:地址变更前:日本东京变更后:日本东京

共 50 条

[1]

溅射用镧靶 [P].

塚本志郎 ;

大月富男 .

中国专利 :CN102356180A ,2012-02-15

[2]

溅射用铜靶材以及溅射用铜靶材的制造方法 [P].

辰巳宪之 ;

小林隆一 ;

上田孝史郎 .

中国专利 :CN103572227A ,2014-02-12

[3]

溅射靶材、溅射靶、溅射靶用铝板及其制造方法 [P].

竹田博贵 ;

藤田昌宏 .

中国专利 :CN110709532B ,2020-01-17

[4]

一种溅射用铌管状靶材的制备方法 [P].

王国栋 ;

林小辉 ;

梁静 ;

李来平 .

中国专利 :CN102489951A ,2012-06-13

[5]

一种磁控溅射用镍靶材的制备方法 [P].

李思勰 ;

闻明 ;

普志辉 ;

杨海 ;

何云帅 ;

杨建明 ;

李治东 ;

许永刚 ;

黄通 .

中国专利 :CN117568765A ,2024-02-20

[6]

一种溅射用高纯钌靶材及其制备方法 [P].

刘联平 ;

马国成 ;

童培云 ;

钟小华 ;

高建成 .

中国专利 :CN119372607A ,2025-01-28

[7]

一种磁控溅射用管状铌靶材的制备方法 [P].

杜永成 ;

王歆锐 ;

樊雅丽 .

中国专利 :CN102794617A ,2012-11-28

[8]

磁控溅射介质靶防龟裂加固箍环 [P].

林立强 ;

朱健 .

中国专利 :CN2765321Y ,2006-03-15

[9]

稀土磁铁用溅射靶及其制造方法 [P].

泽渡广信 .

中国专利 :CN105026607A ,2015-11-04

[10]

一种磁控溅射铜靶材的制备方法以及靶材的应用 [P].

沈月 ;

陈天天 ;

闻明 ;

王传军 ;

许彦亭 ;

周利民 ;

李思勰 ;

巢云秀 ;

李治东 .

中国专利 :CN115533447B ,2024-11-22

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