一种无间断生长高质量InGaN/GaN多量子阱的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201210124792.4
申请日
2012-04-25
公开(公告)号
CN102637787B
公开(公告)日
2012-08-15
发明(设计)人
李盼盼 李鸿渐 张逸韵 李志聪 梁萌 李璟 王国宏
申请人
申请人地址
100083 北京市海淀区清华东路甲35号
IPC主分类号
H01L3300
IPC分类号
H01L2120
代理机构
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
宋焰琴
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种生长在蓝宝石衬底上的InGaN/GaN多量子阱结构 [P]. 
邓顺达 ;
林溪汉 ;
林政德 .
中国专利 :CN204257685U ,2015-04-08
[2]
生长在玻璃衬底上的InGaN/GaN多量子阱 [P]. 
李国强 ;
高芳亮 ;
温雷 .
中国专利 :CN206422090U ,2017-08-18
[3]
生长在Zr衬底上的InGaN/GaN多量子阱 [P]. 
李国强 ;
王文樑 ;
杨为家 ;
刘作莲 ;
林云昊 ;
周仕忠 ;
钱慧荣 .
中国专利 :CN203983322U ,2014-12-03
[4]
生长在W衬底上的InGaN/GaN多量子阱 [P]. 
李国强 ;
王文樑 ;
刘作莲 ;
杨为家 ;
林云昊 ;
周仕忠 ;
钱慧荣 .
中国专利 :CN204067413U ,2014-12-31
[5]
一种InGaN/GaN多量子阱基红光LED结构的制备方法 [P]. 
冀子武 ;
屈尚达 ;
李睿 ;
时凯居 ;
徐明升 ;
王成新 ;
徐现刚 .
中国专利 :CN111916538A ,2020-11-10
[6]
一种InGaN/GaN多量子阱基红光LED结构的制备方法 [P]. 
冀子武 ;
屈尚达 ;
李睿 ;
时凯居 ;
徐明升 ;
王成新 ;
徐现刚 .
中国专利 :CN111916538B ,2024-03-26
[7]
生长高质量氮化铟单晶外延膜的方法 [P]. 
王莉莉 ;
张书明 ;
杨辉 ;
梁骏吾 .
中国专利 :CN101525740B ,2009-09-09
[8]
生长在Zr衬底上的InGaN/GaN多量子阱及其制备方法 [P]. 
李国强 ;
王文樑 ;
杨为家 ;
刘作莲 ;
林云昊 ;
周仕忠 ;
钱慧荣 .
中国专利 :CN104134727A ,2014-11-05
[9]
生长在W衬底上的InGaN/GaN多量子阱及其制备方法 [P]. 
李国强 ;
王文樑 ;
刘作莲 ;
杨为家 ;
林云昊 ;
周仕忠 ;
钱慧荣 .
中国专利 :CN104157754B ,2014-11-19
[10]
生长在玻璃衬底上的InGaN/GaN多量子阱及其制备方法 [P]. 
李国强 ;
高芳亮 ;
温雷 .
中国专利 :CN106505135B ,2017-03-15