半导体硅片的研磨方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201510978842.9
申请日
2015-12-24
公开(公告)号
CN106914815A
公开(公告)日
2017-07-04
发明(设计)人
李显元 沈思情 宋洪伟
申请人
申请人地址
201604 上海市松江区石湖荡镇养石路88号
IPC主分类号
B24B3708
IPC分类号
B24B3704 H01L2102
代理机构
代理人
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体硅片研磨盘 [P]. 
张雷 .
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[2]
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张晨骋 .
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[3]
半导体硅片的清洗方法 [P]. 
李容军 .
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[4]
半导体硅片的清洗方法 [P]. 
张晨骋 .
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[5]
半导体硅片的清洗方法 [P]. 
张晨骋 .
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[6]
一种半导体硅片研磨装置 [P]. 
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[7]
一种半导体硅片研磨装置 [P]. 
李炜 ;
王看看 .
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[8]
一种半导体硅片研磨装置 [P]. 
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[9]
半导体硅片对准标记制作方法及其制作的半导体硅片 [P]. 
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[10]
半导体硅片刻蚀工艺的控制方法 [P]. 
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