用于处理腔室基板支撑的底板

被引：0

专利类型：

外观设计

申请号：

CN201930736575.3

申请日：

2019-12-27

公开(公告)号：

CN305973798S

公开(公告)日：

2020-08-07

发明(设计)人：

什里沙·瑜珈罗穆昆德·桑德拉贾恩蔡振雄曼朱纳塔·P·科帕史蒂文·桑索尼

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

1509

IPC分类号：

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国;赵静

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-08-07	授权	授权

共 50 条

[1]

用于基板处理腔室的基板支撑件 [P].

梁志修 ;

迈克尔·斯特林·杰克逊 ;

吕疆 ;

振雄蔡 ;

松下智治 ;

黄祖滨 .

美国专利 :CN308962345S ,2024-11-22

[2]

用于基板处理腔室的基板支撑件 [P].

梁志修 ;

迈克尔·斯特林·杰克逊 ;

吕疆 ;

振雄蔡 ;

松下智治 ;

黄祖滨 .

美国专利 :CN308496320S ,2024-03-05

[3]

用于基板处理腔室的沉积环 [P].

曼朱纳塔·P·科帕 ;

阿拉文·卡马特 ;

蔡振雄 ;

曼朱纳特·H·V ;

史蒂文·V·桑索尼 ;

大卫·奥 .

中国专利 :CN305889712S ,2020-06-30

[4]

用于基板处理腔室的沉积环 [P].

伊利亚·拉维特斯凯 ;

基思·A·米勒 ;

吉留刚一 .

中国专利 :CN306487840S ,2021-04-23

[5]

用于基板处理腔室的工艺屏蔽物 [P].

伊利亚·拉维特斯凯 ;

基思·A·米勒 ;

吉留刚一 .

中国专利 :CN306532591S ,2021-05-11

[6]

用于基板处理腔室的工艺屏蔽物 [P].

曼朱纳塔·P·科帕 ;

阿拉文·卡马特 ;

蔡振雄 ;

曼朱纳特·H·V ;

史蒂文·V·桑索尼 ;

大卫·奥 .

中国专利 :CN306118918S ,2020-10-23

[7]

用于基板处理腔室的工艺屏蔽物 [P].

伊利亚·拉维特斯凯 ;

基思·A·米勒 ;

吉留刚一 .

中国专利 :CN306604351S ,2021-06-11

[8]

用于基板处理腔室的工艺屏蔽物 [P].

曼朱纳塔·P·科帕 ;

阿拉文·卡马特 ;

蔡振雄 ;

曼朱纳特·H·V ;

史蒂文·V·桑索尼 ;

大卫·奥 .

中国专利 :CN306118919S ,2020-10-23

[9]

基板处理腔室用限制板 [P].

约瑟夫·佩里 .

中国专利 :CN306671442S ,2021-07-09

[10]

基板处理腔室用限制衬垫 [P].

约瑟夫·佩里 .

中国专利 :CN306532684S ,2021-05-11

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