用于基板处理腔室的沉积环

被引：0

专利类型：

外观设计

申请号：

CN202030553220.3

申请日：

2020-09-17

公开(公告)号：

CN306487840S

公开(公告)日：

2021-04-23

发明(设计)人：

伊利亚·拉维特斯凯基思·A·米勒吉留刚一

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

1509

IPC分类号：

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国;赵静

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-04-23	授权	授权

共 50 条

[1]

用于基板处理腔室的沉积环 [P].

曼朱纳塔·P·科帕 ;

阿拉文·卡马特 ;

蔡振雄 ;

曼朱纳特·H·V ;

史蒂文·V·桑索尼 ;

大卫·奥 .

中国专利 :CN305889712S ,2020-06-30

[2]

沉积环（用于物理气相沉积腔室） [P].

大卫·冈瑟 ;

蔡振雄 ;

希兰库玛·尼拉桑德拉·萨万戴亚 .

中国专利 :CN305627489S ,2020-02-21

[3]

半导体处理腔室用沉积环 [P].

基兰库马尔·N·萨凡迪亚 ;

宋佼 ;

大卫·冈瑟 ;

艾琳娜·H·怀索克 ;

安东尼·C-T·陈 .

中国专利 :CN306840504S ,2021-09-21

[4]

反射沉积环和包括反射沉积环的基板处理室 [P].

阿纳塔·K·苏比玛尼 ;

约瑟夫·M·拉内什 ;

袁晓雄 ;

阿希什·戈埃尔 ;

李靖珠 .

中国专利 :CN104584192B ,2015-04-29

[5]

用于PVD腔室的具有高沉积环的处理配件 [P].

大卫·冈瑟 ;

蔡振雄 ;

克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 .

中国专利 :CN113166927A ,2021-07-23

[6]

用于基板处理腔室的基板支撑件 [P].

梁志修 ;

迈克尔·斯特林·杰克逊 ;

吕疆 ;

振雄蔡 ;

松下智治 ;

黄祖滨 .

美国专利 :CN308962345S ,2024-11-22

[7]

用于基板处理腔室的基板支撑件 [P].

梁志修 ;

迈克尔·斯特林·杰克逊 ;

吕疆 ;

振雄蔡 ;

松下智治 ;

黄祖滨 .

美国专利 :CN308496320S ,2024-03-05

[8]

用于处理减小尺寸基板的沉积环 [P].

S·斯如纳乌卡拉苏 ;

E·S·白 ;

F·J·林 ;

K·帕拉西塔森 ;

A·马哈德夫 ;

S·瓦亚布朗 ;

C·B·冼 .

中国专利 :CN111684102A ,2020-09-18

[9]

用于处理腔室基板支撑的底板 [P].

什里沙·瑜珈罗 ;

穆昆德·桑德拉贾恩 ;

蔡振雄 ;

曼朱纳塔·P·科帕 ;

史蒂文·桑索尼 .

中国专利 :CN305973798S ,2020-08-07

[10]

用于物理气相沉积腔室的沉积环及静电夹盘 [P].

M·拉希德 ;

K·A·米勒 ;

R·王 .

中国专利 :CN105177519B ,2015-12-23

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