一种用于化学气相沉积的反应器及其晶片托架

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201721572620.8

申请日：

2017-11-22

公开(公告)号：

CN207619524U

公开(公告)日：

2018-07-17

发明(设计)人：

张中英韦大曼黄文嘉洪伟

申请人：

申请人地址：

361100 福建省厦门市同安区洪塘镇镇民安大道841-899号

IPC主分类号：

C23C16458

IPC分类号：

H01L21687

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-07-17	授权	授权

共 50 条

[1]

一种用于化学气相沉积的反应器 [P].

黄文嘉 ;

彭伟伦 ;

陈奉顺 ;

洪伟 ;

张中英 ;

李明照 ;

张瑞龙 .

中国专利 :CN207552443U ,2018-06-29

[2]

一种用于化学气相沉积工艺的反应器 [P].

杜志游 .

中国专利 :CN202220200U ,2012-05-16

[3]

一种化学气相沉积反应器 [P].

胡晓炜 ;

蒋宗法 ;

胡晓阳 .

中国专利 :CN210438836U ,2020-05-01

[4]

一种化学气相沉积反应器 [P].

方明喜 ;

肖学才 ;

常强 .

中国专利 :CN208933470U ,2019-06-04

[5]

一种化学气相沉积反应器 [P].

于伟华 ;

田新 ;

张春伟 ;

江扣龙 ;

王彬 .

中国专利 :CN206015085U ,2017-03-15

[6]

一种用于化学气相沉积的晶片托架 [P].

黄文嘉 ;

彭伟伦 ;

陈奉顺 ;

洪伟 ;

张中英 ;

李明照 ;

张瑞龙 .

中国专利 :CN207619525U ,2018-07-17

[7]

化学气相沉积反应器 [P].

G.K.斯特劳赫 ;

D.布里恩 ;

M.道尔斯伯格 .

中国专利 :CN102612571A ,2012-07-25

[8]

化学气相沉积反应器 [P].

李森田 ;

优瑞·吉欧吉维奇·史瑞特 ;

优瑞·图马索维奇·瑞朋 ;

罗斯南·伊凡诺维奇·葛布诺夫 .

中国专利 :CN1854336A ,2006-11-01

[9]

化学气相沉积反应器 [P].

刘恒 .

中国专利 :CN101036215A ,2007-09-12

[10]

化学气相沉积反应器 [P].

迈克尔·J·贝卡尼 ;

弗兰克·J·卡姆帕纳勒 .

中国专利 :CN101802254B ,2010-08-11

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