等离子体辅助有机薄膜沉积装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710302363.0

申请日：

2007-12-25

公开(公告)号：

CN101469415B

公开(公告)日：

2009-07-01

发明(设计)人：

黄国兴林东颖张均豪王家宏王登彦

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹县

IPC主分类号：

C23C16513

IPC分类号：

C23C1652

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

梁挥;祁建国

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-08-25	授权	授权
2009-07-01	公开	公开
2009-08-26	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

等离子体辅助薄膜沉积方法 [P].

杜陈忠 ;

黄振荣 ;

梁沐旺 ;

张志振 ;

李升亮 ;

吴庆辉 ;

罗展兴 .

中国专利 :CN101413115B ,2009-04-22

[2]

等离子体薄膜沉积装置 [P].

叶继春 ;

邬苏东 ;

高平奇 ;

杨映虎 ;

韩灿 .

中国专利 :CN203999809U ,2014-12-10

[3]

微波等离子体薄膜沉积装置 [P].

王群 ;

卫博 ;

唐章宏 ;

王明连 ;

金鑫 ;

李永卿 .

中国专利 :CN212270234U ,2021-01-01

[4]

等离子体薄膜沉积装置及沉积方法 [P].

叶继春 ;

邬苏东 ;

高平奇 ;

杨映虎 ;

韩灿 .

中国专利 :CN104152869A ,2014-11-19

[5]

等离子体沉积方法和等离子体沉积设备 [P].

山本薰 ;

金昌炫 ;

宋伣在 ;

申建旭 ;

申铉振 ;

安星柱 ;

李章熙 ;

李昌锡 ;

全基荣 ;

郑根吾 .

中国专利 :CN110880447A ,2020-03-13

[6]

等离子体沉积方法和等离子体沉积设备 [P].

山本薰 ;

金昌炫 ;

宋伣在 ;

申建旭 ;

申铉振 ;

安星柱 ;

李章熙 ;

李昌锡 ;

全基荣 ;

郑根吾 .

韩国专利 :CN110880447B ,2024-04-09

[7]

等离子体辅助式化学气相沉积装置 [P].

杨国玺 ;

游正义 ;

李晓菁 ;

陈宣任 .

中国专利 :CN102747340A ,2012-10-24

[8]

等离子体辅助式化学气相沉积装置 [P].

游正义 ;

杨国玺 ;

李晓菁 ;

陈宣任 .

中国专利 :CN102747339A ,2012-10-24

[9]

等离子体增强薄膜沉积方法及装置 [P].

陈杰良 .

中国专利 :CN1800441B ,2006-07-12

[10]

使用微波等离子体的薄膜沉积 [P].

元泰景 ;

H·诺米南达 ;

S-M·赵 ;

崔寿永 ;

朴范洙 ;

J·M·怀特 ;

S·安瓦尔 ;

J·库德拉 .

中国专利 :CN103270578A ,2013-08-28

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