等离子体薄膜沉积装置及沉积方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410419057.5

申请日：

2014-08-22

公开(公告)号：

CN104152869A

公开(公告)日：

2014-11-19

发明(设计)人：

叶继春邬苏东高平奇杨映虎韩灿

申请人：

申请人地址：

315201 浙江省宁波市镇海庄市大道519号

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

C23C1652

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司 44224

代理人：

李芙蓉

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-02-08	授权	授权
2014-12-17	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101591906790 IPC(主分类):C23C 16/44 专利申请号:2014104190575 申请日:20140822
2014-11-19	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体薄膜沉积装置 [P].

叶继春 ;

邬苏东 ;

高平奇 ;

杨映虎 ;

韩灿 .

中国专利 :CN203999809U ,2014-12-10

[2]

等离子体沉积装置 [P].

董海青 ;

申鹏 .

中国专利 :CN211497785U ,2020-09-15

[3]

等离子体增强薄膜沉积方法及装置 [P].

陈杰良 .

中国专利 :CN1800441B ,2006-07-12

[4]

等离子体辅助薄膜沉积方法 [P].

杜陈忠 ;

黄振荣 ;

梁沐旺 ;

张志振 ;

李升亮 ;

吴庆辉 ;

罗展兴 .

中国专利 :CN101413115B ,2009-04-22

[5]

微波等离子体薄膜沉积装置 [P].

王群 ;

卫博 ;

唐章宏 ;

王明连 ;

金鑫 ;

李永卿 .

中国专利 :CN212270234U ,2021-01-01

[6]

等离子体沉积装置 [P].

孟杰 ;

胡广严 ;

吴孝哲 ;

吴龙江 ;

林宗贤 .

中国专利 :CN208949405U ,2019-06-07

[7]

等离子体辅助有机薄膜沉积装置 [P].

黄国兴 ;

林东颖 ;

张均豪 ;

王家宏 ;

王登彦 .

中国专利 :CN101469415B ,2009-07-01

[8]

等离子体沉积方法和等离子体沉积设备 [P].

山本薰 ;

金昌炫 ;

宋伣在 ;

申建旭 ;

申铉振 ;

安星柱 ;

李章熙 ;

李昌锡 ;

全基荣 ;

郑根吾 .

韩国专利 :CN110880447B ,2024-04-09

[9]

等离子体沉积方法和等离子体沉积设备 [P].

山本薰 ;

金昌炫 ;

宋伣在 ;

申建旭 ;

申铉振 ;

安星柱 ;

李章熙 ;

李昌锡 ;

全基荣 ;

郑根吾 .

中国专利 :CN110880447A ,2020-03-13

[10]

等离子体沉积 [P].

盖·詹姆斯·雷诺兹 ;

康纳·尼古拉斯·马丁 ;

彼得·格洛瓦茨基 ;

玛丽-皮埃尔·弗朗索瓦兹·温特伯特埃普富凯 ;

萨蒂亚纳拉扬·巴利克 ;

帕特里克·坡-曾·陈 .

中国专利 :CN102395704B ,2012-03-28

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