等离子体刻蚀设备

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201220224678.4
申请日
2012-05-17
公开(公告)号
CN202633210U
公开(公告)日
2012-12-26
发明(设计)人
王晶 李谦
申请人
申请人地址
100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
IPC主分类号
H01J3732
IPC分类号
代理机构
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201
代理人
黄德海
法律状态
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体刻蚀设备 [P]. 
赵馗 ;
王奕善 ;
倪图强 .
中国专利 :CN214152845U ,2021-09-07
[2]
等离子体刻蚀设备 [P]. 
郑锦华 ;
王俊杰 ;
廖晓燕 ;
吴双 ;
魏新煦 .
中国专利 :CN105118767A ,2015-12-02
[3]
等离子体刻蚀设备 [P]. 
王显亮 ;
孙文彬 ;
林洋洋 .
中国专利 :CN118398471B ,2024-10-29
[4]
等离子体刻蚀设备 [P]. 
王显亮 ;
孙文彬 ;
林洋洋 .
中国专利 :CN118398471A ,2024-07-26
[5]
等离子体刻蚀设备 [P]. 
黄允文 ;
倪图强 ;
梁洁 ;
赵金龙 .
中国专利 :CN112309807B ,2021-02-02
[6]
等离子体刻蚀设备 [P]. 
周艳 ;
徐朝阳 .
中国专利 :CN113130284B ,2021-07-16
[7]
等离子体刻蚀设备 [P]. 
赵馗 ;
王奕善 ;
倪图强 .
中国专利 :CN114695045A ,2022-07-01
[8]
等离子体刻蚀装置 [P]. 
苏财钰 ;
伍凯义 ;
杨然翔 ;
喻兵 ;
伍修颀 .
中国专利 :CN215933530U ,2022-03-01
[9]
等离子体刻蚀装置 [P]. 
丁佳 ;
吴长明 ;
冯大贵 ;
欧少敏 ;
冯玉岩 .
中国专利 :CN214672495U ,2021-11-09
[10]
等离子体刻蚀机台 [P]. 
张海洋 ;
张城龙 .
中国专利 :CN203895414U ,2014-10-22