等离子体刻蚀设备

被引:0
申请号
CN202011596795.9
申请日
2020-12-29
公开(公告)号
CN114695045A
公开(公告)日
2022-07-01
发明(设计)人
赵馗 王奕善 倪图强
申请人
申请人地址
201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号
IPC主分类号
H01J3732
IPC分类号
H01L2167
代理机构
上海元好知识产权代理有限公司 31323
代理人
徐雯琼;张静洁
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体刻蚀设备 [P]. 
赵馗 ;
王奕善 ;
倪图强 .
中国专利 :CN214152845U ,2021-09-07
[2]
等离子体刻蚀设备 [P]. 
王晶 ;
李谦 .
中国专利 :CN202633210U ,2012-12-26
[3]
等离子体刻蚀设备 [P]. 
郑锦华 ;
王俊杰 ;
廖晓燕 ;
吴双 ;
魏新煦 .
中国专利 :CN105118767A ,2015-12-02
[4]
等离子体刻蚀设备 [P]. 
王显亮 ;
孙文彬 ;
林洋洋 .
中国专利 :CN118398471B ,2024-10-29
[5]
等离子体刻蚀设备 [P]. 
王显亮 ;
孙文彬 ;
林洋洋 .
中国专利 :CN118398471A ,2024-07-26
[6]
等离子体刻蚀设备 [P]. 
黄允文 ;
倪图强 ;
梁洁 ;
赵金龙 .
中国专利 :CN112309807B ,2021-02-02
[7]
等离子体刻蚀设备 [P]. 
周艳 ;
徐朝阳 .
中国专利 :CN113130284B ,2021-07-16
[8]
等离子体刻蚀装置及等离子体刻蚀方法 [P]. 
刘东升 ;
吕煜坤 ;
朱骏 ;
张旭升 .
中国专利 :CN105161395A ,2015-12-16
[9]
等离子体刻蚀装置及其等离子体刻蚀方法 [P]. 
周亚勇 ;
罗林 ;
刘家桦 .
中国专利 :CN109256316A ,2019-01-22
[10]
等离子体刻蚀装置和等离子体刻蚀方法 [P]. 
黄啟伟 ;
柳波 ;
高君 ;
张家赫 ;
刘彦伟 .
中国专利 :CN121096838A ,2025-12-09