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等离子体刻蚀设备
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201510445160.1
申请日：
2015-07-27
公开(公告)号：
CN105118767A
公开(公告)日：
2015-12-02
发明(设计)人：
郑锦华
王俊杰
廖晓燕
吴双
魏新煦
申请人：
申请人地址：
450001 河南省郑州市高新区科学大道100号
IPC主分类号：
H01J3732
IPC分类号：
代理机构：
郑州德勤知识产权代理有限公司 41128
代理人：
黄军委
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2017-04-12 | 授权 | 授权 |
| 2015-12-30 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101640131903 IPC(主分类):H01J 37/32 专利申请号:2015104451601 申请日:20150727 |
| 2015-12-02 | 公开 | 公开 |