立式等离子体处理装置和半导体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710095828.X

申请日：

2007-04-05

公开(公告)号：

CN101051606A

公开(公告)日：

2007-10-10

发明(设计)人：

高桥俊树福岛讲平织户康一佐藤润

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L2131 H01L21318 H01L21205 H01L21285 H01L213205 H01L21768 C23C1600 C23C16455 C23C1634

代理机构：

北京纪凯知识产权代理有限公司

代理人：

龙淳

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-05-26	授权	授权
2009-02-11	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-10-10	公开	公开

共 50 条

[1]

半导体处理用的立式等离子体处理装置 [P].

松浦广行 ;

高桥俊树 ;

佐藤润 ;

相川胜芳 ;

石井胜利 .

中国专利 :CN101042992B ,2007-09-26

[2]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

东条利洋 ;

藤井祐希 .

中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

堀口贵弘 ;

冈信介 .

中国专利 :CN100536634C ,2006-11-15

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

金子和史 .

中国专利 :CN114302547A ,2022-04-08

[5]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

塚原利也 ;

山边周平 ;

谷地晃汰 ;

佐藤徹治 ;

内田阳平 ;

铃木步太 ;

田村洋典 ;

花冈秀敏 ;

佐佐木淳一 .

日本专利 :CN111261511B ,2024-06-18

[6]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

江藤隆纪 ;

泽田石真之 .

中国专利 :CN109390229A ,2019-02-26

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

塚原利也 ;

山边周平 ;

谷地晃汰 ;

佐藤徹治 ;

内田阳平 ;

铃木步太 ;

田村洋典 ;

花冈秀敏 ;

佐佐木淳一 .

中国专利 :CN111261511A ,2020-06-09

[8]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

进藤崇央 ;

冈本清一 ;

大友洋 ;

菊地贵伦 ;

松土龙夫 ;

森田靖 ;

佐久间隆 .

中国专利 :CN113936985A ,2022-01-14

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

进藤崇央 ;

冈本清一 ;

大友洋 ;

菊地贵伦 ;

松土龙夫 ;

森田靖 ;

佐久间隆 .

日本专利 :CN113936985B ,2025-03-11

[10]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

西野雅 ;

舟久保隆男 ;

狐塚慎一 ;

新妻良祐 ;

伊藤务 .

中国专利 :CN104576453A ,2015-04-29

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