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聚硅氧烷单体及其制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201880024264.7
申请日
:
2018-03-30
公开(公告)号
:
CN110494457B
公开(公告)日
:
2019-11-22
发明(设计)人
:
冈村薰
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都千代田区大手町2丁目6番1号
IPC主分类号
:
C08F3008
IPC分类号
:
C08F29014
C08G6548
C08G7720
C08G7738
C08G8100
C08J3075
G02C704
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
:
童春媛;梅黎
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-02-14
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C08F 30/08 申请日:20180330
2022-04-01
授权
授权
2019-11-22
公开
公开
共 50 条
[1]
聚硅氧烷单体及其制造方法
[P].
冈村薰
论文数:
0
引用数:
0
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0
冈村薰
.
中国专利
:CN112262160A
,2021-01-22
[2]
聚硅氧烷薄膜及其制备方法
[P].
须藤通孝
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须藤通孝
;
D·E·凯特索里斯
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D·E·凯特索里斯
;
栉引信男
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栉引信男
.
中国专利
:CN1662608A
,2005-08-31
[3]
有机聚硅氧烷及其制备方法
[P].
C·赫尔齐希
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0
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C·赫尔齐希
;
H·劳滕施拉格尔
论文数:
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0
H·劳滕施拉格尔
.
中国专利
:CN101233172A
,2008-07-30
[4]
聚硅氧烷及其制备
[P].
S·韦斯特尔
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S·韦斯特尔
;
A·瑟吉纳
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A·瑟吉纳
;
P·C·霍普菲尔德
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P·C·霍普菲尔德
.
中国专利
:CN100415804C
,2006-07-05
[5]
高纯度聚硅氧烷大分子单体及其制备方法
[P].
B·C·阿克莱斯
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机构:
盖列斯特有限公司
盖列斯特有限公司
B·C·阿克莱斯
;
J·D·高夫
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机构:
盖列斯特有限公司
盖列斯特有限公司
J·D·高夫
.
美国专利
:CN118401532A
,2024-07-26
[6]
聚硅氧烷的制备方法及其用途
[P].
查从济
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查从济
;
D·库库尔吉
论文数:
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D·库库尔吉
.
中国专利
:CN100341923C
,2006-01-11
[7]
聚硅氧烷的制备方法及其用途
[P].
A·沙姆舒林
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A·沙姆舒林
;
D·库库利
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D·库库利
;
G·R·阿特金斯
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G·R·阿特金斯
.
中国专利
:CN101541863B
,2009-09-23
[8]
聚硅氧烷及其制造方法
[P].
根岸千幸
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根岸千幸
;
吉川裕司
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吉川裕司
.
中国专利
:CN111315801B
,2020-06-19
[9]
聚硅氧烷及其制造方法
[P].
小川琢哉
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小川琢哉
;
今井纮平
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今井纮平
;
大岛义人
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0
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大岛义人
.
中国专利
:CN101248106A
,2008-08-20
[10]
一种硅氧烷桥基梯形聚硅氧烷及其制备方法
[P].
曹新宇
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曹新宇
;
张榕本
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张榕本
;
谢萍
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谢萍
;
方世壁
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方世壁
;
马永梅
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马永梅
.
中国专利
:CN104045831B
,2014-09-17
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