ONO屏蔽栅的SGT结构及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202110055819.8
申请日
2021-01-15
公开(公告)号
CN112382572B
公开(公告)日
2021-02-19
发明(设计)人
杨乐 李铁生 楼颖颖 李恩求 刘琦
申请人
申请人地址
710018 陕西省西安市未央区经济技术开发区凤城十二路1号出口加工区
IPC主分类号
H01L21336
IPC分类号
H01L2128 H01L29786
代理机构
西安新思维专利商标事务所有限公司 61114
代理人
李罡
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
具有屏蔽栅的沟槽栅结构及其制造方法 [P]. 
陈正嵘 .
中国专利 :CN105225935A ,2016-01-06
[2]
一种ONO结构的SGT MOSFET器件及其制备方法 [P]. 
李加洋 ;
陶瑞龙 ;
胡兴正 ;
薛璐 .
中国专利 :CN118173449A ,2024-06-11
[3]
一种ONO结构的SGT MOSFET器件及其制备方法 [P]. 
李加洋 ;
陶瑞龙 ;
胡兴正 ;
薛璐 .
中国专利 :CN118173449B ,2024-09-03
[4]
SGT结构及其制造方法 [P]. 
康志潇 ;
蔡晨 ;
李亮 .
中国专利 :CN113506822A ,2021-10-15
[5]
SGT器件的制造方法 [P]. 
赵鑫栋 ;
张蕾 ;
潘嘉 ;
杨继业 .
中国专利 :CN120152364A ,2025-06-13
[6]
一种屏蔽栅MOSFET(SGT)的制作方法 [P]. 
黄平 ;
鲍利华 ;
顾海颖 .
中国专利 :CN114999916A ,2022-09-02
[7]
SGT的屏蔽栅的制作方法 [P]. 
张蕾 ;
钱佳成 ;
刘秀勇 ;
陈正嵘 .
中国专利 :CN114121631A ,2022-03-01
[8]
新型屏蔽栅沟槽MOSFET及其制造方法 [P]. 
白羽 .
中国专利 :CN115036358A ,2022-09-09
[9]
具有屏蔽栅的沟槽栅MOSFET及其制造方法 [P]. 
刘坚 .
中国专利 :CN112713184B ,2024-04-02
[10]
带有屏蔽栅结构的IGBT器件及制造方法 [P]. 
廖巍 ;
张海涛 .
中国专利 :CN112271214A ,2021-01-26