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用于制造半导体器件的方法和半导体器件
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201510261574.9
申请日
:
2015-05-21
公开(公告)号
:
CN105097665A
公开(公告)日
:
2015-11-25
发明(设计)人
:
M.巴特尔斯
H.法伊克
C.屈恩
D.奥芬贝格
A.施特尔滕波尔
H.塔迪肯
I.乌利希
申请人
:
申请人地址
:
德国瑙伊比贝尔格市坎芘昂1-12号
IPC主分类号
:
H01L21768
IPC分类号
:
H01L23482
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
:
王岳;胡莉莉
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2015-11-25
公开
公开
2015-12-23
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101638512905 IPC(主分类):H01L 21/768 专利申请号:2015102615749 申请日:20150521
2019-08-13
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体器件和制造半导体器件的方法
[P].
F.希尔勒
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F.希尔勒
;
C.坎彭
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C.坎彭
;
A.迈泽
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A.迈泽
.
中国专利
:CN103915499A
,2014-07-09
[2]
半导体器件和用于制造半导体器件的方法
[P].
V.卡波迪西
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V.卡波迪西
;
M.丁克尔
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M.丁克尔
;
U.施马尔茨鲍尔
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U.施马尔茨鲍尔
;
M.聪德尔
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M.聪德尔
.
中国专利
:CN103985709B
,2014-08-13
[3]
半导体器件和用于制造半导体器件的方法
[P].
增田健良
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增田健良
;
和田圭司
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和田圭司
;
日吉透
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日吉透
.
中国专利
:CN103748688A
,2014-04-23
[4]
半导体器件和用于制造半导体器件的方法
[P].
A.迈泽尔
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A.迈泽尔
;
M.佩尔茨尔
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M.佩尔茨尔
;
T.施勒泽
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0
T.施勒泽
.
中国专利
:CN103794649B
,2014-05-14
[5]
半导体器件和用于制造半导体器件的方法
[P].
O.布兰克
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O.布兰克
;
F.希尔勒
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F.希尔勒
;
R.西米尼克
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R.西米尼克
;
叶俐君
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叶俐君
.
中国专利
:CN105390549A
,2016-03-09
[6]
半导体器件和用于制造半导体器件的方法
[P].
木下敦宽
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木下敦宽
;
土屋义规
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土屋义规
;
古贺淳二
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古贺淳二
.
中国专利
:CN100448008C
,2006-08-16
[7]
用于制造半导体器件的方法和半导体器件
[P].
古谷晃
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古谷晃
.
中国专利
:CN100481383C
,2007-02-14
[8]
用于制造半导体器件的方法和半导体器件
[P].
P·伊尔西格勒
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P·伊尔西格勒
;
J·鲍姆加特尔
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J·鲍姆加特尔
;
M·聪德尔
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M·聪德尔
;
A·毛德
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A·毛德
;
F·希尔勒
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F·希尔勒
;
R·威斯
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R·威斯
.
中国专利
:CN104752492A
,2015-07-01
[9]
半导体器件以及用于制造半导体器件的方法
[P].
岛昌司
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岛昌司
.
中国专利
:CN103208494A
,2013-07-17
[10]
半导体器件制造方法和半导体器件
[P].
小川裕之
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小川裕之
;
有吉润一
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有吉润一
.
中国专利
:CN104637796A
,2015-05-20
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