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一种N极性氮化物模板、N极性氮化物器件及其制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110068061.1
申请日
:
2021-01-19
公开(公告)号
:
CN112786751A
公开(公告)日
:
2021-05-11
发明(设计)人
:
陈洋
孙晓娟
黎大兵
蒋科
贲建伟
张山丽
石芝铭
臧行
申请人
:
申请人地址
:
130033 吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号
IPC主分类号
:
H01L3318
IPC分类号
:
H01L3332
H01L3312
H01L3300
代理机构
:
深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316
代理人
:
魏毅宏
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-05-11
公开
公开
2021-05-28
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 33/18 申请日:20210119
共 50 条
[1]
极性控制方法、氮化物薄膜制备方法和氮化物薄膜
[P].
李成果
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李成果
;
曾巧玉
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曾巧玉
;
陈志涛
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陈志涛
.
中国专利
:CN111128689A
,2020-05-08
[2]
氮化物模板的制备方法、氮化物模板及半导体器件
[P].
王国斌
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机构:
江苏第三代半导体研究院有限公司
江苏第三代半导体研究院有限公司
王国斌
;
李建洁
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机构:
江苏第三代半导体研究院有限公司
江苏第三代半导体研究院有限公司
李建洁
.
中国专利
:CN120895464A
,2025-11-04
[3]
氮化物半导体模板的制造方法、氮化物半导体模板及氮化物半导体器件
[P].
藤仓序章
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藤仓序章
;
今野泰一郎
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今野泰一郎
;
三宅秀人
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三宅秀人
.
中国专利
:CN108155278B
,2018-06-12
[4]
氮化物半导体模板的制造方法、氮化物半导体模板及氮化物半导体器件
[P].
藤仓序章
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藤仓序章
;
今野泰一郎
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今野泰一郎
;
三宅秀人
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三宅秀人
.
中国专利
:CN108155279A
,2018-06-12
[5]
氮化物器件及其制备方法
[P].
蔡文必
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蔡文必
;
刘胜厚
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刘胜厚
;
卢益锋
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卢益锋
;
孙希国
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孙希国
;
谷鹏
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谷鹏
;
其他发明人请求不公开姓名
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其他发明人请求不公开姓名
.
中国专利
:CN113690297A
,2021-11-23
[6]
氮化物功率器件及其制备方法
[P].
刘成
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刘成
;
田野
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田野
;
何俊蕾
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何俊蕾
;
赵杰
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赵杰
;
郭德霄
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郭德霄
;
刘洋
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刘洋
;
叶念慈
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叶念慈
.
中国专利
:CN111883578A
,2020-11-03
[7]
基于N极性氮化物材料的光电转换结构及制备方法
[P].
许晟瑞
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许晟瑞
;
范晓萌
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范晓萌
;
王学炜
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王学炜
;
郝跃
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郝跃
;
张进成
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张进成
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李培咸
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李培咸
;
张春福
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张春福
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马晓华
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马晓华
;
毕臻
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毕臻
;
艾立霞
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艾立霞
.
中国专利
:CN109004055A
,2018-12-14
[8]
基于N极性III族氮化物纳米线的LED器件
[P].
Y·马尔霍特拉
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机构:
密歇根大学董事会
密歇根大学董事会
Y·马尔霍特拉
;
A·潘德尼
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机构:
密歇根大学董事会
密歇根大学董事会
A·潘德尼
;
米泽田
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机构:
密歇根大学董事会
密歇根大学董事会
米泽田
.
美国专利
:CN118318312A
,2024-07-09
[9]
氮化物材料的制备方法及氮化物半导体器件
[P].
郭艳敏
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郭艳敏
;
尹甲运
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尹甲运
;
李佳
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李佳
;
王波
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王波
;
张志荣
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张志荣
;
芦伟立
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芦伟立
;
高楠
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高楠
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房玉龙
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房玉龙
;
冯志红
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冯志红
.
中国专利
:CN113628953A
,2021-11-09
[10]
基于非极性m面的氮化物CMOS器件及其制备方法
[P].
论文数:
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机构:
许晟瑞
;
论文数:
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机构:
刘洋
;
论文数:
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机构:
陶鸿昌
;
论文数:
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机构:
张涛
;
论文数:
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机构:
苏华科
;
论文数:
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机构:
刘旭
;
论文数:
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机构:
高源
;
论文数:
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机构:
贾敬宇
;
论文数:
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机构:
郝跃
.
中国专利
:CN120417480A
,2025-08-01
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