碳间隙填充膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980041177.7

申请日：

2019-06-19

公开(公告)号：

CN112385013A

公开(公告)日：

2021-02-19

发明(设计)人：

江施施 E·文卡塔苏布磊曼聂 P·曼纳 A·玛里克

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

H01L21324 H01L21764

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

杨学春;侯颖媖

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-02-19	公开	公开
2021-03-09	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20190619

共 50 条

[1]

碳间隙填充处理 [P].

A·S·巴加尔 ;

符谦 .

美国专利 :CN118120043A ,2024-05-31

[2]

低温碳间隙填充 [P].

S·高希 ;

S·S·罗伊 ;

A·B·玛里克 ;

S·S·奥哈 ;

P·P·杰哈 ;

程睿 .

美国专利 :CN119365960A ,2025-01-24

[3]

使用基于碳的膜的间隙填充 [P].

唐伟 ;

杰森·达恩金·帕克 ;

巴特·J·范施兰芬迪杰克 ;

王舒济 ;

卡伊翰·艾比迪·艾施提阿妮 .

中国专利 :CN106067440A ,2016-11-02

[4]

含铝膜的间隙-填充 [P].

马克·沙丽 ;

拉克马尔·C·卡拉塔拉格 ;

杰弗里·W·安西斯 ;

佐藤达也 .

中国专利 :CN112740397A ,2021-04-30

[5]

含铝膜的间隙-填充 [P].

马克·沙丽 ;

拉克马尔·C·卡拉塔拉格 ;

杰弗里·W·安西斯 ;

佐藤达也 .

美国专利 :CN112740397B ,2025-03-28

[6]

无缝隙间隙填充沉积 [P].

赵庆华 ;

程睿 ;

K·嘉纳基拉曼 .

美国专利 :CN117980533A ,2024-05-03

[7]

实现无缝钴间隙填充的方法 [P].

布尚·N·左普 ;

阿夫耶里诺斯·V·杰拉托斯 ;

博·郑 ;

雷雨 ;

傅新宇 ;

斯里尼瓦斯·甘迪科塔 ;

柳尚澔 ;

马修·亚伯拉罕 .

中国专利 :CN105518827A ,2016-04-20

[8]

用于间隙填充的隔离结构外观 [P].

王祥保 .

中国专利 :CN102637720B ,2012-08-15

[9]

实现无缝钴间隙填充的方法 [P].

布尚·N·左普 ;

阿夫耶里诺斯·V·杰拉托斯 ;

博·郑 ;

雷雨 ;

傅新宇 ;

斯里尼瓦斯·甘迪科塔 ;

柳尚澔 ;

马修·亚伯拉罕 .

中国专利 :CN110066984B ,2019-07-30

[10]

间隙填充方法 [P].

沈载桓 ;

朴琎洪 ;

林载峰 ;

赵廷奎 ;

徐承柏 ;

朴钟根 ;

李明琦 ;

P·D·胡斯塔德 .

中国专利 :CN105304550A ,2016-02-03

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