研磨液及其制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201811466897.1
申请日
2018-12-03
公开(公告)号
CN109628064A
公开(公告)日
2019-04-16
发明(设计)人
石及时 张璐 何俊才 吴友壮 康新
申请人
申请人地址
523000 广东省东莞市万江区上甲社区园洲工业路18号
IPC主分类号
C09K314
IPC分类号
代理机构
深圳市华勤知识产权代理事务所(普通合伙) 44426
代理人
隆毅
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
钢球研磨液及其制备方法 [P]. 
顾文龙 ;
陆红健 .
中国专利 :CN110257150A ,2019-09-20
[2]
悬浮液、研磨液及其制备方法 [P]. 
周一 ;
毕洪伟 ;
彭杰 .
中国专利 :CN113698914A ,2021-11-26
[3]
一种晶片研磨液及其制备方法 [P]. 
毕洪伟 ;
周一 ;
刘留 ;
苏小平 ;
王春平 .
中国专利 :CN112080251B ,2020-12-15
[4]
一种研磨液用凝胶组合物及其制备方法 [P]. 
田乐 ;
朱晓森 ;
常亚昕 ;
王伟超 ;
刘毅 .
中国专利 :CN118620578A ,2024-09-10
[5]
研磨液及其制备方法 [P]. 
黄永庆 ;
杨莹 .
中国专利 :CN111363520A ,2020-07-03
[6]
研磨液、研磨液的制备方法和使用该研磨液的研磨方法 [P]. 
张贺 ;
娄艳芳 ;
胡伯清 ;
王锡铭 ;
彭同华 ;
陈小龙 .
中国专利 :CN101979450A ,2011-02-23
[7]
水性金刚石研磨液及其制备方法和用途 [P]. 
王宝运 ;
许亚杰 ;
李晓冬 .
中国专利 :CN101186804A ,2008-05-28
[8]
一种金刚石研磨液及其制备方法 [P]. 
何宏谦 ;
杜文宏 ;
李莹 ;
王堃 ;
刘东红 ;
肖磊 ;
肖安琪 ;
易琼 ;
陶程 ;
梁董琦玥 .
中国专利 :CN117987084A ,2024-05-07
[9]
用于氮化镓半导体晶片的研磨液及其制备方法 [P]. 
曹蕊 .
中国专利 :CN106244022A ,2016-12-21
[10]
一种氧化镓晶片精细研磨液及其制备方法 [P]. 
陈政委 ;
赵德刚 ;
范钦明 .
中国专利 :CN112322256A ,2021-02-05