一种能够改善内壁镀膜均匀性的镀膜装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010170404.0

申请日：

2020-03-12

公开(公告)号：

CN111334764A

公开(公告)日：

2020-06-26

发明(设计)人：

冯斌王德苗金浩

申请人：

申请人地址：

215300 江苏省苏州市昆山玉山镇元丰路232号1号楼

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C23C1450 C23C1404

代理机构：

南京纵横知识产权代理有限公司 32224

代理人：

董建林

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-06-26	公开	公开
2022-03-08	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移 IPC(主分类):C23C 14/34 登记生效日:20220223 变更事项:申请人变更前权利人:苏州求是真空电子有限公司变更后权利人:杭州比凡科电子科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:215300 江苏省苏州市昆山玉山镇元丰路232号1号楼变更后权利人:310024 浙江省杭州市西湖区古荡街道和景商务中心3幢414室
2020-07-21	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/34 申请日:20200312

共 50 条

[1]

一种能够改善内壁镀膜均匀性的镀膜装置 [P].

冯斌 ;

王德苗 ;

金浩 .

中国专利 :CN212713729U ,2021-03-16

[2]

一种可改善磁控溅射镀膜均匀性的镀膜装置 [P].

班超 ;

程春生 ;

张钦廉 ;

曹嘉寰 ;

符东浩 ;

李传文 ;

刘毅楠 ;

赵浩 .

中国专利 :CN202193839U ,2012-04-18

[3]

一种提高镀膜均匀性的镀膜装置 [P].

龙何军 .

中国专利 :CN215365960U ,2021-12-31

[4]

一种改善镀膜均匀性的进气装置 [P].

陈竹铁 ;

施忠林 ;

刘闯 ;

张琳琪 ;

陈冬斌 .

中国专利 :CN220564713U ,2024-03-08

[5]

一种改善镀膜均匀性的假片 [P].

宋晓良 ;

姚晓波 .

中国专利 :CN204144229U ,2015-02-04

[6]

一种改善PVD镀膜机镀膜均匀性的屏蔽罩 [P].

宋光耀 ;

李毅 ;

龙鹏 .

中国专利 :CN203222613U ,2013-10-02

[7]

一种镀膜均匀的镀膜装置 [P].

李安和 ;

李春霞 ;

李刚 ;

李晓敏 .

中国专利 :CN222631541U ,2025-03-18

[8]

一种镀膜均匀的镀膜装置 [P].

贾世荣 .

中国专利 :CN110863178B ,2020-03-06

[9]

一种镀膜均匀的镀膜装置 [P].

袁小夫 ;

舒本剑 ;

李均平 .

中国专利 :CN222931104U ,2025-06-03

[10]

一种均匀镀膜的镀膜装置 [P].

蒋丽丽 .

中国专利 :CN221371269U ,2024-07-19

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