自形成阻挡层工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880043608.9

申请日：

2018-06-26

公开(公告)号：

CN110870046A

公开(公告)日：

2020-03-06

发明(设计)人：

安鲁达哈·乔伊耶兹迪·多尔迪

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

H01L21768

代理机构：

上海胜康律师事务所 31263

代理人：

樊英如;邱晓敏

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-28	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20180626
2020-03-06	公开	公开

共 50 条

[1]

自形成阻挡层工艺 [P].

安鲁达哈·乔伊 ;

耶兹迪·多尔迪 .

美国专利 :CN110870046B ,2024-05-24

[2]

自形成阻挡层工艺 [P].

安鲁达哈·乔伊 ;

耶兹迪·多尔迪 .

美国专利 :CN118824839A ,2024-10-22

[3]

形成MgO阻挡层的方法 [P].

Q·何 ;

J·Y·易 ;

E·W·辛格尔顿 .

中国专利 :CN106098082A ,2016-11-09

[4]

渗透阻挡层 [P].

J·拉姆 .

中国专利 :CN101999012A ,2011-03-30

[5]

渗透阻挡层 [P].

J·拉姆 .

中国专利 :CN105695934A ,2016-06-22

[6]

氧化阻挡层 [P].

尤尔根·拉姆 ;

弗洛里安·塞伯特 ;

贝诺·维德里希 ;

多丽丝·佛普斯婆丽 .

中国专利 :CN105917020B ,2016-08-31

[7]

过孔阻挡层 [P].

R·胡拉尼 ;

M·克雷萨克 ;

F·格瑟特莱恩 ;

R·A·布雷恩 ;

M·T·博尔 .

中国专利 :CN107004598B ,2017-08-01

[8]

碱金属扩散阻挡层 [P].

J·J·芬雷 ;

F·H·吉勒里 .

中国专利 :CN1162575A ,1997-10-22

[9]

去除阻挡层的方法 [P].

王晖 ;

张洪伟 ;

代迎伟 ;

金一诺 ;

王坚 .

中国专利 :CN113782430B ,2025-09-12

[10]

去除阻挡层的方法 [P].

王晖 ;

张洪伟 ;

代迎伟 ;

金一诺 ;

王坚 .

中国专利 :CN113782430A ,2021-12-10

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