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清洗装置及清洗方法
被引:0
申请号
:
CN202110188736.6
申请日
:
2021-02-19
公开(公告)号
:
CN114724972A
公开(公告)日
:
2022-07-08
发明(设计)人
:
叶永全
徐嘉祥
王瑞僧
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新北市泰山区南林路98号
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
H01L2102
B08B302
B08B1300
代理机构
:
北京派特恩知识产权代理有限公司 11270
代理人
:
浦彩华;姚开丽
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-07-08
公开
公开
2022-07-26
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20210219
共 50 条
[1]
清洗装置及清洗方法
[P].
宋斌
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
广东中图半导体科技股份有限公司
广东中图半导体科技股份有限公司
宋斌
;
陈锐源
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
广东中图半导体科技股份有限公司
广东中图半导体科技股份有限公司
陈锐源
;
张剑桥
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
广东中图半导体科技股份有限公司
广东中图半导体科技股份有限公司
张剑桥
;
吴先燕
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
广东中图半导体科技股份有限公司
广东中图半导体科技股份有限公司
吴先燕
.
中国专利
:CN120709201A
,2025-09-26
[2]
清洗装置及方法
[P].
黄富源
论文数:
0
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0
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0
黄富源
;
吴宗恩
论文数:
0
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0
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0
吴宗恩
;
王志成
论文数:
0
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0
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0
王志成
.
中国专利
:CN110473800A
,2019-11-19
[3]
清洗装置及清洗方法
[P].
白川征人
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
富士胶片株式会社
富士胶片株式会社
白川征人
.
日本专利
:CN117730282A
,2024-03-19
[4]
清洗装置及清洗方法
[P].
田中佑季
论文数:
0
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0
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0
田中佑季
;
饭泉健
论文数:
0
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0
饭泉健
;
梶川敬之
论文数:
0
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0
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0
梶川敬之
.
中国专利
:CN115605981A
,2023-01-13
[5]
清洗装置及清洗方法
[P].
王善鹤
论文数:
0
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0
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0
王善鹤
.
中国专利
:CN114308879A
,2022-04-12
[6]
清洗装置及清洗方法
[P].
于丽
论文数:
0
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0
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0
机构:
楚天华通医药设备有限公司
楚天华通医药设备有限公司
于丽
;
薛永
论文数:
0
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0
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0
机构:
楚天华通医药设备有限公司
楚天华通医药设备有限公司
薛永
;
王东
论文数:
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机构:
楚天华通医药设备有限公司
楚天华通医药设备有限公司
王东
;
胡智英
论文数:
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0
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机构:
楚天华通医药设备有限公司
楚天华通医药设备有限公司
胡智英
;
邵英关
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机构:
楚天华通医药设备有限公司
楚天华通医药设备有限公司
邵英关
;
张天
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机构:
楚天华通医药设备有限公司
楚天华通医药设备有限公司
张天
.
中国专利
:CN112792076B
,2025-05-13
[7]
清洗装置及清洗方法
[P].
石桥知淳
论文数:
0
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0
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0
石桥知淳
.
中国专利
:CN104971916B
,2015-10-14
[8]
清洗装置及清洗方法
[P].
罗君文
论文数:
0
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0
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罗君文
;
常斌
论文数:
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0
常斌
;
范世超
论文数:
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范世超
;
尹利军
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0
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0
尹利军
;
孙慧
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孙慧
;
唐洪杨
论文数:
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0
唐洪杨
.
中国专利
:CN107442538A
,2017-12-08
[9]
清洗装置及清洗方法
[P].
任树朝
论文数:
0
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机构:
上海新昇半导体科技有限公司
上海新昇半导体科技有限公司
任树朝
;
朱远方
论文数:
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机构:
上海新昇半导体科技有限公司
上海新昇半导体科技有限公司
朱远方
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
刘丽英
.
中国专利
:CN114334726B
,2025-07-11
[10]
清洗装置及清洗方法
[P].
茂木文雄
论文数:
0
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0
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机构:
富士胶片株式会社
富士胶片株式会社
茂木文雄
;
桥谷学
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机构:
富士胶片株式会社
富士胶片株式会社
桥谷学
;
渡边年宏
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机构:
富士胶片株式会社
富士胶片株式会社
渡边年宏
;
池山裕介
论文数:
0
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0
机构:
富士胶片株式会社
富士胶片株式会社
池山裕介
.
日本专利
:CN117546102A
,2024-02-09
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