清洗装置及清洗方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510151490.X

申请日：

2015-04-01

公开(公告)号：

CN104971916B

公开(公告)日：

2015-10-14

发明(设计)人：

石桥知淳

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

B08B302

IPC分类号：

B08B308 B08B102 B08B1300 H01L2167 F26B508 F26B2100

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

陈伟;王娟娟

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-07	授权	授权
2015-10-14	公开	公开
2017-04-26	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101716004794 IPC(主分类):B08B 3/02 专利申请号:201510151490X 申请日:20150401

共 50 条

[1]

晶片表面清洗装置及清洗方法 [P].

刘海晓 ;

吴仪 .

中国专利 :CN102416391A ,2012-04-18

[2]

晶片清洗装置及清洗方法 [P].

刘伟 ;

吴仪 ;

张豹 ;

蔡家骏 ;

初国超 .

中国专利 :CN102641869A ,2012-08-22

[3]

清洗装置 [P].

石桥知淳 .

中国专利 :CN111589752B ,2020-08-28

[4]

清洗装置 [P].

石桥知淳 .

中国专利 :CN109647769A ,2019-04-19

[5]

清洗装置及清洗方法 [P].

田中佑季 ;

饭泉健 ;

梶川敬之 .

中国专利 :CN115605981A ,2023-01-13

[6]

清洗装置及清洗方法 [P].

池山裕介 ;

曾根信幸 ;

大岛笃 .

中国专利 :CN113396060B ,2021-09-14

[7]

磷化铟晶片清洗方法及半导体晶片清洗装置 [P].

王金灵 ;

周铁军 ;

田玉莲 ;

毕宏岩 .

中国专利 :CN117380617A ,2024-01-12

[8]

清洗装置、晶圆处理设备及其清洗方法 [P].

陶剑峰 ;

蒋国彪 ;

杨哲闵 ;

王建忠 .

中国专利 :CN116921374B ,2025-11-14

[9]

半导体晶片动态换向清洗装置和清洗方法 [P].

李杰 ;

姜月月 .

中国专利 :CN120998815A ,2025-11-21

[10]

晶圆清洗装置及清洗方法 [P].

王爽 ;

高文琳 ;

母凤文 ;

郭超 .

中国专利 :CN117423644A ,2024-01-19

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