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掩模检查装置和方法、以及包括该方法的制造掩模的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910988185.4
申请日
:
2019-10-17
公开(公告)号
:
CN111176068A
公开(公告)日
:
2020-05-19
发明(设计)人
:
宋弦昔
姜仁勇
张日容
申请人
:
申请人地址
:
韩国京畿道
IPC主分类号
:
G03F184
IPC分类号
:
G03F186
代理机构
:
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
:
梁栋国
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-05-19
公开
公开
2021-09-24
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/84 申请日:20191017
共 50 条
[1]
掩模检查装置和方法、以及包括该方法的制造掩模的方法
[P].
宋弦昔
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
宋弦昔
;
姜仁勇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
姜仁勇
;
张日容
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
张日容
.
韩国专利
:CN111176068B
,2024-07-09
[2]
图案检查方法、光掩模检查装置、光掩模的制造方法
[P].
尾崎太一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
尾崎太一
.
中国专利
:CN112578631A
,2021-03-30
[3]
图案检查方法、光掩模检查装置、光掩模的制造方法
[P].
尾崎太一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HOYA株式会社
HOYA株式会社
尾崎太一
.
日本专利
:CN112578631B
,2025-06-20
[4]
光掩模的制造方法、检查方法和检查装置
[P].
剑持大介
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
剑持大介
.
中国专利
:CN110058488A
,2019-07-26
[5]
测量EUV掩模的相位的装置和方法及制造掩模的方法
[P].
朴钟主
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
朴钟主
;
李来源
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李来源
;
韩学承
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
韩学承
;
金成洙
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
金成洙
.
中国专利
:CN113494966A
,2021-10-12
[6]
掩模检查装置和方法
[P].
P·迪尔克森
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
P·迪尔克森
;
T·斯蒂芬
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
T·斯蒂芬
.
中国专利
:CN1918513B
,2007-02-21
[7]
波纹缺陷检查掩模、波纹缺陷检查装置及方法、以及光掩模的制造方法
[P].
村井诚
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
村井诚
.
中国专利
:CN1702429A
,2005-11-30
[8]
光掩模检查方法、光掩模制造方法及光掩模检查装置
[P].
剑持大介
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
剑持大介
.
中国专利
:CN109307980A
,2019-02-05
[9]
丝网掩模检查装置、焊料印刷检查装置以及丝网掩模的检查方法
[P].
菊池和义
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
CKD株式会社
CKD株式会社
菊池和义
;
新山孝幸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
CKD株式会社
CKD株式会社
新山孝幸
;
大山刚
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
CKD株式会社
CKD株式会社
大山刚
;
坂井田宪彦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
CKD株式会社
CKD株式会社
坂井田宪彦
.
日本专利
:CN115210078B
,2024-10-11
[10]
不均缺陷检查装置和方法及光掩模的制造方法
[P].
田中淳一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
田中淳一
.
中国专利
:CN100454511C
,2006-06-14
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