半导体发光元件、半导体发光元件的制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201410028811.2
申请日
2014-01-21
公开(公告)号
CN103972337A
公开(公告)日
2014-08-06
发明(设计)人
楠木克辉 佐藤寿朗
申请人
申请人地址
日本爱知县
IPC主分类号
H01L3302
IPC分类号
H01L3332 H01L3320 H01L3300
代理机构
北京市中咨律师事务所 11247
代理人
段承恩;杨光军
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体发光元件及半导体发光元件的制造方法 [P]. 
丹羽纪隆 ;
稻津哲彦 .
日本专利 :CN113675310B ,2024-02-09
[2]
半导体发光元件及半导体发光元件的制造方法 [P]. 
丹羽纪隆 ;
稻津哲彦 .
日本专利 :CN114744093B ,2025-02-25
[3]
半导体发光元件及半导体发光元件的制造方法 [P]. 
丹羽纪隆 ;
稻津哲彦 .
中国专利 :CN114744093A ,2022-07-12
[4]
半导体发光元件及半导体发光元件的制造方法 [P]. 
丹羽纪隆 ;
稻津哲彦 .
中国专利 :CN113675309A ,2021-11-19
[5]
半导体发光元件及半导体发光元件的制造方法 [P]. 
丹羽纪隆 ;
稻津哲彦 .
日本专利 :CN113675309B ,2024-03-19
[6]
半导体发光元件及半导体发光元件的制造方法 [P]. 
丹羽纪隆 ;
稻津哲彦 .
中国专利 :CN113675310A ,2021-11-19
[7]
半导体发光元件及半导体发光元件的制造方法 [P]. 
和田贡 ;
深掘真也 .
中国专利 :CN110383508A ,2019-10-25
[8]
半导体发光元件以及半导体发光元件的制造方法 [P]. 
松仓勇介 ;
希利尔·贝诺 .
中国专利 :CN110383507B ,2019-10-25
[9]
半导体发光元件以及半导体发光元件的制造方法 [P]. 
曾根直树 .
日本专利 :CN120753025A ,2025-10-03
[10]
半导体发光元件及半导体发光元件的制造方法 [P]. 
石本圣治 ;
神野大树 .
日本专利 :CN117355950A ,2024-01-05