用于降低多层铜互连阻挡层CMP缺陷的碱性抛光液及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911184055.1

申请日：

2019-11-27

公开(公告)号：

CN111004579B

公开(公告)日：

2020-04-14

发明(设计)人：

罗翀王辰伟徐奕宋国强刘玉岭檀柏梅

申请人：

申请人地址：

300000 天津市红桥区丁字沽光荣道8号

IPC主分类号：

H01L21304

IPC分类号：

C09G102

代理机构：

天津市三利专利商标代理有限公司 12107

代理人：

杨欢

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-08-06	授权	授权
2020-05-08	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09G 1/02 申请日:20191127
2020-04-14	公开	公开

共 50 条

[1]

多层铜互连阻挡层抛光液及其制备方法 [P].

王辰伟 ;

刘玉岭 ;

罗翀 ;

周建伟 ;

牛新环 ;

王如 .

中国专利 :CN112322190A ,2021-02-05

[2]

用于降低多层钴互连阻挡层CMP中表面缺陷的抛光液及其制备方法 [P].

王辰伟 ;

程远深 ;

王胜利 ;

杨云点 ;

刘玉岭 .

中国专利 :CN110951400A ,2020-04-03

[3]

一种用于降低钌阻挡层铜CMP缺陷的抛光液 [P].

罗翀 ;

周建伟 ;

史万里 ;

孙纪元 ;

张彤彤 .

中国专利 :CN119710708A ,2025-03-28

[4]

一种用于铜布线阻挡层钴的碱性抛光液及其制备方法 [P].

王辰伟 ;

高宝红 ;

李祥州 ;

刘玉岭 ;

何彦刚 .

中国专利 :CN106118491B ,2016-11-16

[5]

一种用于降低铜互连阻挡层表面缺陷的抛光液及其制备方法 [P].

惠宏业 ;

庞雪柯 ;

姚力军 ;

朱海青 .

中国专利 :CN119220182A ,2024-12-31

[6]

一种多层铜互连阻挡层用抛光液及其制备方法 [P].

惠宏业 ;

庞雪柯 ;

姚力军 ;

朱海青 .

中国专利 :CN119220181A ,2024-12-31

[7]

一种用于阻挡层钌的碱性抛光液及其制备方法 [P].

王辰伟 ;

刘玉岭 ;

郑环 ;

周建伟 ;

高宝红 .

中国专利 :CN106118492A ,2016-11-16

[8]

用于多层铜互连阻挡层CMP速率选择性的控制方法 [P].

王辰伟 ;

刘玉岭 ;

罗翀 ;

王胜利 ;

孙鸣 ;

高宝红 .

中国专利 :CN112355884B ,2021-02-12

[9]

用于抑制铜钌阻挡层电偶腐蚀的碱性抛光液及其制备方法 [P].

王辰伟 ;

刘玉岭 ;

牛新环 ;

张乐 ;

孙鸣 .

中国专利 :CN106118495B ,2016-11-16

[10]

一种用于TSV钛阻挡层的碱性抛光液及其制备方法 [P].

潘国峰 ;

翟乐 ;

杨学莉 ;

王辰伟 ;

周建伟 ;

曹子宜 .

中国专利 :CN119639353A ,2025-03-18

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