一种改良的晶硅太阳能电池氮化硅减反膜制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201110188006.2
申请日
2011-07-06
公开(公告)号
CN102864436A
公开(公告)日
2013-01-09
发明(设计)人
周艺 欧衍聪 何文红 黄岳文 郭长春 肖斌
申请人
申请人地址
410114 湖南省长沙市雨花区万家丽南路2段960号
IPC主分类号
C23C1634
IPC分类号
H01L3118 H01L310216
代理机构
代理人
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
晶体硅太阳能电池各色氮化硅膜制备方法 [P]. 
刘贤金 ;
周大良 ;
周小荣 .
中国专利 :CN101834225A ,2010-09-15
[2]
沉积氮化硅膜的方法、晶硅太阳能电池及其制作方法 [P]. 
范志东 ;
赵学玲 ;
张小盼 ;
解占壹 ;
王涛 ;
李永超 .
中国专利 :CN102789969B ,2012-11-21
[3]
一种晶体硅太阳能电池减反膜 [P]. 
张春华 ;
李栋 ;
高文丽 ;
孟祥熙 ;
许涛 .
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[4]
一种连续制备晶体硅太阳能电池PN结及减反膜的方法 [P]. 
万青 ;
曾梦麟 ;
佘鹏 ;
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[5]
一种晶体硅太阳能电池三层氮化硅减反射膜及其制备方法 [P]. 
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卢春晖 ;
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[6]
一种晶体硅太阳能电池氮化硅减反射膜及其制备方法 [P]. 
傅强 ;
董道宴 ;
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刘代军 ;
陈红玉 ;
匡英 ;
汪双 .
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[7]
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贾佳 ;
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黄青松 ;
黄钧林 ;
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余静文 .
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[8]
一种多层氮化硅减反膜太阳能电池制作方法 [P]. 
范志东 ;
王静 ;
张东升 ;
赵学玲 ;
吝占胜 ;
李倩 ;
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[9]
N型TBC晶硅太阳能电池的制造方法 [P]. 
丰明璋 ;
赵文祥 ;
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[10]
硅太阳能电池双层减反射薄膜及其制备方法 [P]. 
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