一种氧化硅抛光液及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410093599.8

申请日：

2014-03-13

公开(公告)号：

CN103911617A

公开(公告)日：

2014-07-09

发明(设计)人：

曾名辉

申请人：

申请人地址：

518000 广东省深圳市龙华新区观澜狮径社区悦兴路45号1楼102

IPC主分类号：

C23F302

IPC分类号：

代理机构：

深圳市中联专利代理有限公司 44274

代理人：

李俊

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-07-09	公开	公开
2015-09-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101625659992 IPC(主分类):C23F 3/02 专利申请号:2014100935998 申请日:20140313
2018-05-25	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23F 3/02 申请公布日:20140709

共 50 条

[1]

一种氧化硅抛光液及其制备方法 [P].

龚廷 ;

周庆饴 ;

贺金元 .

中国专利 :CN120442170A ,2025-08-08

[2]

一种高效抛光液及其制备方法 [P].

左海珍 .

中国专利 :CN109971363B ,2019-07-05

[3]

一种用于硅片的高分散性氧化硅基抛光液及其制备方法 [P].

王辰伟 ;

蒋丽娇 ;

刘飞 ;

李仕权 ;

李星 .

中国专利 :CN121160231A ,2025-12-19

[4]

抛光液及其制备方法和应用 [P].

程好 ;

高永超 ;

杨淑平 ;

庄维伟 ;

张国栋 ;

蔡渊 .

中国专利 :CN103923571B ,2014-07-16

[5]

一种铝合金抛光液及其制备方法 [P].

魏炜 ;

黄灿荣 ;

陈书磊 .

中国专利 :CN118360655A ,2024-07-19

[6]

一种高抛光效率的二氧化硅抛光液及其制备方法 [P].

李春生 ;

李明月 ;

高礼明 .

中国专利 :CN118222190A ,2024-06-21

[7]

一种铝氧化抛光液及其制备方法 [P].

李凡 .

中国专利 :CN119320605A ,2025-01-17

[8]

一种金属抛光液及其制备方法 [P].

姚振红 .

中国专利 :CN105441951A ,2016-03-30

[9]

一种用于二氧化硅介质的抛光液及其制备方法 [P].

仲跻和 ;

李家荣 ;

周云昌 ;

高如山 .

中国专利 :CN101096573A ,2008-01-02

[10]

用于合金抛光的氧化铝抛光液及其制备方法 [P].

曾名辉 .

中国专利 :CN103937413A ,2014-07-23

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