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一种高抛光效率的二氧化硅抛光液及其制备方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202410334504.0
申请日：
2024-03-22
公开(公告)号：
CN118222190A
公开(公告)日：
2024-06-21
发明(设计)人：
李春生 李明月 高礼明
申请人：
河南路纳尔新材料有限公司
申请人地址：
451400 河南省郑州市中牟县中兴路汉丰科技园B3-4
IPC主分类号：
C09G1/02
IPC分类号：
C09K3/14
代理机构：
上海新泊利知识产权代理事务所(普通合伙) 31435
代理人：
郑慧娟
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
河南省 郑州市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2024-07-09 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):C09G 1/02申请日:20240322
2024-06-21 公开 公开
共 50 条
[1]
铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液 [P]. 
仲跻和 .
中国专利 :CN101368068A ,2009-02-18
[2]
一种改性纳米二氧化硅复合抛光液及其应用 [P]. 
石峰 ;
张万里 ;
戴一帆 ;
彭小强 ;
宋辞 ;
宋家亮 .
中国专利 :CN108587478A ,2018-09-28
[3]
一种SIC晶圆CMP抛光用二氧化硅抛光液及其制备方法 [P]. 
向定艾 .
中国专利 :CN115418169A ,2022-12-02
[4]
锌和铬加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液 [P]. 
仲跻和 .
中国专利 :CN101368069A ,2009-02-18
[5]
一种用于二氧化硅介质的抛光液及其制备方法 [P]. 
仲跻和 ;
李家荣 ;
周云昌 ;
高如山 .
中国专利 :CN101096573A ,2008-01-02
[6]
微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液及其制备方法 [P]. 
仲路和 .
中国专利 :CN101050338A ,2007-10-10
[7]
二氧化硅抛光液及其制备方法 [P]. 
苏宏久 ;
王卓杰 ;
李德翔 ;
雒睿雯 ;
宋平 .
中国专利 :CN119899592A ,2025-04-29
[8]
微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液 [P]. 
仲跻和 .
中国专利 :CN101368070A ,2009-02-18
[9]
一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法 [P]. 
仲跻和 .
中国专利 :CN101307211A ,2008-11-19
[10]
一种二氧化硅基CMP抛光液及其制备方法 [P]. 
高桂花 ;
张兰田 .
中国专利 :CN102796460A ,2012-11-28
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