微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710058743.4

申请日：

2007-08-15

公开(公告)号：

CN101368070A

公开(公告)日：

2009-02-18

发明(设计)人：

仲跻和

申请人：

申请人地址：

226600江苏省海安开发区城东镇东海大道18号

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

B24B2900

代理机构：

天津三元专利商标代理有限责任公司

代理人：

胡婉明

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-02-18	公开	公开
2011-05-04	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101083936034 IPC(主分类):C09G 1/02 专利申请号:2007100587434 公开日:20090218

共 50 条

[1]

微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液及其制备方法 [P].

仲路和 .

中国专利 :CN101050338A ,2007-10-10

[2]

锌和铬加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液 [P].

仲跻和 .

中国专利 :CN101368069A ,2009-02-18

[3]

铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液 [P].

仲跻和 .

中国专利 :CN101368068A ,2009-02-18

[4]

一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法 [P].

仲跻和 .

中国专利 :CN101307211A ,2008-11-19

[5]

一种改性纳米二氧化硅复合抛光液及其应用 [P].

石峰 ;

张万里 ;

戴一帆 ;

彭小强 ;

宋辞 ;

宋家亮 .

中国专利 :CN108587478A ,2018-09-28

[6]

一种高抛光效率的二氧化硅抛光液及其制备方法 [P].

李春生 ;

李明月 ;

高礼明 .

中国专利 :CN118222190A ,2024-06-21

[7]

一种SIC晶圆CMP抛光用二氧化硅抛光液及其制备方法 [P].

向定艾 .

中国专利 :CN115418169A ,2022-12-02

[8]

一种二氧化铈-二氧化硅复合磨料的化学机械抛光液 [P].

张保国 ;

陈康 ;

王月鹏 ;

宋家坤 ;

刘世桐 ;

吴佳伟 ;

咸文豪 ;

秦思慧 .

中国专利 :CN120904795A ,2025-11-07

[9]

一种用于二氧化硅介质的抛光液及其制备方法 [P].

仲跻和 ;

李家荣 ;

周云昌 ;

高如山 .

中国专利 :CN101096573A ,2008-01-02

[10]

一种去除二氧化硅颗粒的抛光液 [P].

杨三贵 ;

刘治州 ;

康徐芳 .

中国专利 :CN108102554A ,2018-06-01

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