一种去除二氧化硅颗粒的抛光液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201711391805.3

申请日：

2017-12-21

公开(公告)号：

CN108102554A

公开(公告)日：

2018-06-01

发明(设计)人：

杨三贵刘治州康徐芳

申请人：

申请人地址：

100176 北京市大兴区经济技术开发区通惠干渠路17号院

IPC主分类号：

C09G118

IPC分类号：

代理机构：

北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 11003

代理人：

张宇锋

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-06-01	公开	公开
2018-06-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09G 1/18 申请日:20171221
2022-02-25	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C09G 1/18 申请公布日:20180601

共 50 条

[1]

铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液 [P].

仲跻和 .

中国专利 :CN101368068A ,2009-02-18

[2]

一种用于二氧化硅介质的抛光液及其制备方法 [P].

仲跻和 ;

李家荣 ;

周云昌 ;

高如山 .

中国专利 :CN101096573A ,2008-01-02

[3]

一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法 [P].

仲跻和 .

中国专利 :CN101307211A ,2008-11-19

[4]

锌和铬加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液 [P].

仲跻和 .

中国专利 :CN101368069A ,2009-02-18

[5]

一种高抛光效率的二氧化硅抛光液及其制备方法 [P].

李春生 ;

李明月 ;

高礼明 .

中国专利 :CN118222190A ,2024-06-21

[6]

二氧化硅抛光液及其制备方法 [P].

苏宏久 ;

王卓杰 ;

李德翔 ;

雒睿雯 ;

宋平 .

中国专利 :CN119899592A ,2025-04-29

[7]

一种二氧化铈-二氧化硅复合磨料的化学机械抛光液 [P].

张保国 ;

陈康 ;

王月鹏 ;

宋家坤 ;

刘世桐 ;

吴佳伟 ;

咸文豪 ;

秦思慧 .

中国专利 :CN120904795A ,2025-11-07

[8]

一种改性纳米二氧化硅复合抛光液及其应用 [P].

石峰 ;

张万里 ;

戴一帆 ;

彭小强 ;

宋辞 ;

宋家亮 .

中国专利 :CN108587478A ,2018-09-28

[9]

一种二氧化硅基CMP抛光液及其制备方法 [P].

高桂花 ;

张兰田 .

中国专利 :CN102796460A ,2012-11-28

[10]

非球形的二氧化硅颗粒及其制备方法和抛光液 [P].

杨勍 ;

王树东 ;

苏宏久 ;

邹海良 ;

任高远 ;

周慧慧 .

中国专利 :CN114539813A ,2022-05-27

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