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一种校准方法以及校准装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202210024936.2
申请日
:
2022-01-11
公开(公告)号
:
CN114063032B
公开(公告)日
:
2022-02-18
发明(设计)人
:
孙笑晨
张其浩
刘飞
申请人
:
申请人地址
:
310051 浙江省杭州市滨江区长河街道江虹路459号1号楼B座12楼1203室
IPC主分类号
:
G01S740
IPC分类号
:
代理机构
:
杭州裕阳联合专利代理有限公司 33289
代理人
:
张解翠
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-03-08
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G01S 7/40 申请日:20220111
2022-02-18
公开
公开
2022-04-29
授权
授权
共 50 条
[1]
校准装置以及校准方法
[P].
三谷佳一
论文数:
0
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0
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三谷佳一
;
田岛和幸
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田岛和幸
;
山崎和良
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山崎和良
.
中国专利
:CN114615441A
,2022-06-10
[2]
校准装置以及校准方法
[P].
冈室琢磨
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冈室琢磨
;
奥村资纪
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奥村资纪
;
太田睦彦
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太田睦彦
;
后藤和敏
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后藤和敏
;
柳泽功
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柳泽功
;
稻冈靖雄
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稻冈靖雄
.
中国专利
:CN100557479C
,2008-03-19
[3]
校准装置以及校准方法
[P].
V·J·库卢维拉
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V·J·库卢维拉
;
常田晴弘
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常田晴弘
.
中国专利
:CN111319034A
,2020-06-23
[4]
校准装置以及校准方法
[P].
三谷佳一
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机构:
株式会社日立制作所
株式会社日立制作所
三谷佳一
;
田岛和幸
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机构:
株式会社日立制作所
株式会社日立制作所
田岛和幸
;
山崎和良
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机构:
株式会社日立制作所
株式会社日立制作所
山崎和良
.
日本专利
:CN114615441B
,2024-07-12
[5]
校准装置、校准方法以及校准程序
[P].
金野翔太
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金野翔太
;
片山贵登
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片山贵登
.
中国专利
:CN115597650A
,2023-01-13
[6]
校准装置、校准方法以及校准图表装置
[P].
小柳津秀纪
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小柳津秀纪
.
中国专利
:CN111567031B
,2020-08-21
[7]
一种自动校准装置以及校准方法
[P].
李镇仕
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李镇仕
.
中国专利
:CN106501745A
,2017-03-15
[8]
校准装置控制装置以及校准方法
[P].
津村阳一郎
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津村阳一郎
;
稻叶贵则
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稻叶贵则
.
中国专利
:CN102113088A
,2011-06-29
[9]
校准装置、校准方法以及校准程序存储介质
[P].
坂野盛彦
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坂野盛彦
;
佐藤启二
论文数:
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佐藤启二
.
中国专利
:CN108141570B
,2018-06-08
[10]
氚校准装置以及氚校准方法
[P].
陈志林
论文数:
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机构:
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
陈志林
;
杨阳
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机构:
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
杨阳
;
陈平
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机构:
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
陈平
;
赖财锋
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机构:
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
赖财锋
;
李余
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机构:
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
李余
;
程胜寒
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机构:
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
程胜寒
;
姜文翔
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机构:
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
姜文翔
;
彭述明
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机构:
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
彭述明
.
中国专利
:CN117970425A
,2024-05-03
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