抛光垫及抛光装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN99814332.4

申请日：

1999-11-05

公开(公告)号：

CN1099939C

公开(公告)日：

2002-01-09

发明(设计)人：

城邦恭南口尚士冈哲雄

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

B24B3700

IPC分类号：

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

陈昕

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2003-01-29	授权	授权
2002-01-09	公开	公开
2017-12-22	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B 37/00 申请日:19991105 授权公告日:20030129 终止日期:20161105
2002-01-09	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

抛光垫及晶圆抛光装置 [P].

柴万里 ;

王凯 ;

谢毓 .

中国专利 :CN120588104A ,2025-09-05

[2]

抛光垫及晶圆抛光装置 [P].

柴万里 ;

王凯 ;

谢毓 .

中国专利 :CN120588104B ,2025-10-10

[3]

城邦恭 ;

桥阪和彦 ;

冈哲雄 .

中国专利 :CN1158165C ,2001-10-03

[4]

抛光垫、抛光装置及抛光方法 [P].

涩木俊一 .

中国专利 :CN1628374A ,2005-06-15

[5]

抛光垫、抛光单元、抛光装置、及抛光垫的制造方法 [P].

立野哲平 ;

松冈立马 ;

栗原浩 ;

鸣岛早月 ;

高见沢大和 .

中国专利 :CN115397614A ,2022-11-25

[6]

抛光垫、抛光单元、抛光装置、及抛光垫的制造方法 [P].

立野哲平 ;

松冈立马 ;

栗原浩 ;

鸣岛早月 ;

高见沢大和 .

日本专利 :CN115397614B ,2024-08-23

[7]

抛光装置、表面修整装置及抛光方法 [P].

曾于平 ;

郑人豪 .

中国专利 :CN110774169A ,2020-02-11

[8]

抛光层，抛光垫及抛光方法 [P].

罗乙杰 ;

毛丽华 ;

高越 .

中国专利 :CN119734199A ,2025-04-01

[9]

抛光垫和抛光装置 [P].

小沼喜纪 ;

贺来大树 ;

舟桥克纮 ;

宿轮雄介 ;

辻恭朋 .

日本专利 :CN119501777A ,2025-02-25

[10]

抛光垫和抛光装置 [P].

B·E·伯特玛 ;

S·F·阿布拉哈姆 ;

A·P·帕玛塔特 .

中国专利 :CN101400479B ,2009-04-01

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