晶圆的处理系统

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202010117476.9
申请日
2020-02-25
公开(公告)号
CN111293061A
公开(公告)日
2020-06-16
发明(设计)人
夏余平 顾立勋 李君 徐融
申请人
申请人地址
430074 湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室
IPC主分类号
H01L2167
IPC分类号
代理机构
北京康信知识产权代理有限责任公司 11240
代理人
霍文娟
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
晶圆的处理系统 [P]. 
夏余平 ;
顾立勋 ;
李君 ;
徐融 .
中国专利 :CN211980572U ,2020-11-20
[2]
晶圆处理系统 [P]. 
田杰 ;
李俊 .
中国专利 :CN222637237U ,2025-03-18
[3]
晶圆处理系统 [P]. 
寇崇善 ;
张建成 ;
张家欧 .
中国专利 :CN118553636A ,2024-08-27
[4]
晶圆处理系统 [P]. 
谢文杰 ;
叶书佑 ;
高克斌 ;
钟佳宏 ;
吴立仁 ;
陈俊佑 ;
陈宏铭 ;
吴泳铤 .
中国专利 :CN109817548A ,2019-05-28
[5]
晶圆的处理方法和晶圆的处理系统 [P]. 
夏余平 ;
顾立勋 ;
徐融 ;
任德营 .
中国专利 :CN111243944A ,2020-06-05
[6]
晶圆处理方法及晶圆处理系统 [P]. 
杨永兴 ;
王国峰 .
中国专利 :CN115483136A ,2022-12-16
[7]
晶圆处理系统及晶圆处理方法 [P]. 
金亨源 ;
蔡熙星 ;
郑熙锡 .
韩国专利 :CN116013806B ,2024-04-26
[8]
晶圆处理设备及晶圆处理系统 [P]. 
田建辉 ;
岳超俊 .
中国专利 :CN223273227U ,2025-08-26
[9]
晶圆处理装置、晶圆处理方法及晶圆处理系统 [P]. 
李永杰 ;
刘达 .
中国专利 :CN120854249A ,2025-10-28
[10]
一种晶圆处理方法及晶圆处理系统 [P]. 
乔宁平 ;
李春雷 ;
杨良忠 ;
闫良 ;
眭利民 .
中国专利 :CN120854257A ,2025-10-28