一种琉璃抛光装置及抛光工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110445001.7

申请日：

2021-04-24

公开(公告)号：

CN113183019B

公开(公告)日：

2021-07-30

发明(设计)人：

黄璁志曾志明杨惠姗

申请人：

申请人地址：

201100 上海市闵行区七宝镇华中路488号

IPC主分类号：

B24B3106

IPC分类号：

B24B3112 B24B4100 B24B4102 B24B4704 B24B3116 B24B5700

代理机构：

北京维正专利代理有限公司 11508

代理人：

温开瑞

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-04-08	授权	授权
2021-07-30	公开	公开
2021-08-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 31/06 申请日:20210424

共 50 条

[1]

一种钢锹智能抛光装置及抛光工艺 [P].

张勇 ;

王连贤 ;

丁洪旗 ;

王东 .

中国专利 :CN112247809A ,2021-01-22

[2]

一种晶圆抛光装置及抛光工艺 [P].

赵航 ;

冯校亮 ;

王刚 .

中国专利 :CN119304762A ,2025-01-14

[3]

一种钢锹智能抛光装置及抛光工艺 [P].

陈立东 ;

庞建春 ;

王晨光 ;

黄鸿辉 .

中国专利 :CN114589609A ,2022-06-07

[4]

一种空心胶囊及抛光工艺及抛光装置 [P].

张咏梅 ;

刘富有 ;

高玲 ;

杨钊 ;

吕蒙 ;

吴琳 ;

高涛涛 .

中国专利 :CN113352225A ,2021-09-07

[5]

一种空心胶囊及抛光工艺及抛光装置 [P].

张咏梅 ;

刘富有 ;

高玲 ;

杨钊 ;

吕蒙 ;

吴琳 ;

高涛涛 .

中国专利 :CN113352225B ,2024-06-25

[6]

一种琉璃的打磨、抛光工艺 [P].

李建友 .

中国专利 :CN107175542A ,2017-09-19

[7]

一种金属加工抛光装置及抛光工艺 [P].

高猛 .

中国专利 :CN114378705A ,2022-04-22

[8]

一种硅片有蜡抛光工艺及抛光装置 [P].

陈跃骅 ;

方萌 ;

周贤明 ;

赵纪平 ;

戴文仙 ;

刘小祥 ;

汪新平 ;

廖建军 .

中国专利 :CN119260585A ,2025-01-07

[9]

一种光学镜片抛光装置及抛光工艺 [P].

周志凯 ;

陈锐 .

中国专利 :CN107671605A ,2018-02-09

[10]

一种晶硅片碱抛光装置及抛光工艺 [P].

张红利 ;

罗江 ;

李雪芬 ;

王池 ;

李锋清 ;

李杨 ;

袁震芹 ;

虢世恩 ;

毕超群 ;

程力 .

中国专利 :CN112792711B ,2021-05-14

← 1 2 3 4 5 →