平坦度得到改善的薄膜蒸镀用掩膜组装体及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010202266.X

申请日：

2020-03-20

公开(公告)号：

CN113308666A

公开(公告)日：

2021-08-27

发明(设计)人：

庾弘宇

申请人：

申请人地址：

韩国仁川市防筑路352,101号、102号

IPC主分类号：

C23C1404

IPC分类号：

C23C1412 C23C1424

代理机构：

北京锺维联合知识产权代理有限公司 11579

代理人：

罗银燕

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-08-27	公开	公开
2021-09-14	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/04 申请日:20200320

共 7 条

[1]

薄膜蒸镀用掩膜组件及其制造方法 [P].

金容焕 .

中国专利 :CN103820753B ,2014-05-28

[2]

用于薄膜蒸镀用掩模组装体的复合框架要素及其制造方法 [P].

金永周 .

中国专利 :CN111945109B ,2020-11-17

[3]

含硅薄膜蒸镀用组合物及利用其的含硅薄膜的制造方法 [P].

金成基 ;

朴重进 ;

杨炳日 ;

张世珍 ;

朴建柱 ;

朴廷主 ;

丁熙娟 ;

李三东 ;

李相益 ;

金铭云 .

中国专利 :CN111373072B ,2020-07-03

[4]

薄膜蒸镀设备和制造OLED显示装置的方法 [P].

叶添昇 .

中国专利 :CN103866235A ,2014-06-18

[5]

含锑薄膜蒸镀用组合物、含锑薄膜的制造方法和锑化合物 [P].

權容熙 ;

任永宰 ;

全相勇 ;

卞泰锡 ;

李相赞 ;

李相益 .

韩国专利 :CN116355019B ,2025-07-22

[6]

基于等离子加热的金属化薄膜蒸镀系统及其方法 [P].

周峰 ;

汤泽波 ;

李俊 ;

樊申松 ;

张吉民 ;

王金兵 ;

徐湘华 ;

周涛 .

中国专利 :CN120818795A ,2025-10-21

[7]

过渡金属化合物、其制造方法及包含其的含过渡金属薄膜蒸镀用组合物 [P].

金铭云 ;

李相益 ;

蔡元默 ;

任相俊 ;

李刚镛 ;

曹儿罗 ;

全相勇 ;

林幸墩 .

中国专利 :CN109071571A ,2018-12-21