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曝光机再次曝光校正装置
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201320636264.7
申请日：
2013-10-16
公开(公告)号：
CN203535379U
公开(公告)日：
2014-04-09
发明(设计)人：
蒋恒亮
张永福
邓志强
申请人：
申请人地址：
424213 湖南省郴州市宜章县南京洞开发区
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
郴州大天知识产权事务所(普通合伙) 43212
代理人：
徐起堂
法律状态：
专利权的终止
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2017-12-01 | 专利权的终止 | 未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20131016 授权公告日:20140409 终止日期:20161016 |
| 2014-04-09 | 授权 | 授权 |