用于等离子体设备腔室的等离子清洗方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110126645.6

申请日：

2011-05-16

公开(公告)号：

CN102789960A

公开(公告)日：

2012-11-21

发明(设计)人：

李俊杰

申请人：

申请人地址：

100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L213065 B08B700

代理机构：

北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201

代理人：

黄德海

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-01-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101378928260 IPC(主分类):H01L 21/00 专利申请号:2011101266456 申请日:20110516
2017-03-01	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101747582429 IPC(主分类):H01L 21/00 专利申请号:2011101266456 申请公布日:20121121

共 50 条

[1]

用于等离子体处理腔室的等离子体屏 [P].

M·T·尼科尔斯 ;

I·尤瑟夫 ;

J·A·奥马利三世 ;

R·丁德萨 ;

S·E·巴巴扬 .

中国专利 :CN109643630A ,2019-04-16

[2]

等离子体设备及其反应腔室 [P].

杨玉杰 ;

边国栋 ;

吕铀 ;

王厚工 ;

陈鹏 .

中国专利 :CN103854945A ,2014-06-11

[3]

用于等离子体加工设备的反应腔室和等离子体加工设备 [P].

武小娟 .

中国专利 :CN102103980B ,2011-06-22

[4]

等离子体处理腔室及用于等离子体处理腔室的环 [P].

艾伦·L·丹布拉 ;

舍什拉伊·L·图尔什巴瓦勒 .

中国专利 :CN208908212U ,2019-05-28

[5]

等离子体处理腔室及用于等离子体处理腔室的环 [P].

艾伦·L·丹布拉 ;

舍什拉伊·L·图尔什巴瓦勒 .

中国专利 :CN207637742U ,2018-07-20

[6]

腔体内衬、等离子体反应腔室和等离子体设备 [P].

肖德志 ;

王建龙 .

中国专利 :CN110838429B ,2020-02-25

[7]

反应腔室以及等离子体设备 [P].

王伟 .

中国专利 :CN108987237A ,2018-12-11

[8]

等离子体设备及其反应腔室 [P].

刘建生 ;

陈鹏 ;

吕铀 ;

杨玉杰 ;

郭浩 .

中国专利 :CN103849836B ,2014-06-11

[9]

反应腔室以及等离子体设备 [P].

王伟 .

中国专利 :CN108987237B ,2024-06-21

[10]

反应腔室以及等离子体设备 [P].

王伟 .

中国专利 :CN208478281U ,2019-02-05

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